MISC

2010年8月30日

硝酸酸化(NAOS)法を用いた比較的厚い(~6nm)SiO₂膜の低温創製

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)

深谷洋介
柳瀬隆
松本健俊
小林光

巻: 71st
号
開始ページ: ROMBUNNO.16P-S-2
終了ページ
記述言語: 日本語
掲載種別

リンク情報

J-GLOBAL: https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201002232848999602

ID情報

J-Global ID : 201002232848999602

エクスポート: BibTeX RIS

MISCリストへ