2019年11月10日 原子状水素化処理、酸素プラズマ処理による酸化物半導体のギャップ内準位の変化 第16回 薄膜材料デバイス研究会@響都ホール 鈴木貴祐、清水耕作 記述言語 日本語 会議種別 ポスター発表 主催者 TFMD