佐藤勝 (MASARU SATO) - マイポータル

基本情報

学位: 博士（工学）(2012年3月北見工業大学大学院)

J-GLOBAL ID: 200901051685903590
researchmap会員ID: 6000001056

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受賞

論文

Fundamental evaluation of orientation and grain size of Cu film in Cu/TaWN/SiO₂/Si system

Masaru Sato, Mitsunobu Yasuda, Mayumi B. Takeyama

Japanese Journal of Applied Physics 62(SH) SH8003-SH8003 2023年6月8日筆頭著者
XRD and EBSD analysis of Cu film on randomly oriented ZrN _x film as the underlying materials

Masaru Sato, Mitsunobu Yasuda, Mayumi B. Takeyama

Japanese Journal of Applied Physics 59(SL) SLLD01-SLLD01 2020年4月6日
Characterization of TiN films sputter-deposited at low temperatures for Cu-through-silicon via

Masaru Sato, Hideki Kitada, Mayumi B. Takeyama

Japanese Journal of Applied Physics 58(SB) SBBC03-SBBC03 2019年2月25日筆頭著者
Relationship between TiN films with different orientations and their barrier properties

Masaru Sato, Mayumi B. Takeyama

Japanese Journal of Applied Physics 57(7S2) 07MB01-07MB01 2018年6月20日筆頭著者
Growth of < 111 >-oriented Cu layer on thin TaWN films

Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(7) 2017年7月査読有り
Preparation of ultrathin TiNx films by radical assisted low temperature deposition and their barrier properties against Cu diffusion

Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Eiji Aoyagi, Atsushi Noya

VACUUM 126 10-15 2016年4月査読有り
Barrier properties of ultrathin VN films of low resistivity and high density for Cu interconnects

Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Takaomi Itoi, Eiji Aoyagi, Atsushi Noya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(2) 1-6 2016年2月査読有り
Room-temperature deposition of HfNx barrier by radical-assisted surface reaction for through-silicon-via in three-dimensional LSI

Masaru Sato, Mayumi B. Takeyama, Atsushi Noya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(2) 2016年2月査読有り
Thermally stable ZrN/Zr3N4 bilayered barrier system for through-Si-via process

Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Atsushi Noya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 54(5) 2015年5月査読有り
3D/2.5D-IC TSVに向けた低温成膜SiNxの特性評価

135(7) 733-738 2015年
TSVプロセスに適用可能な反応性スパッタ法を用いたSiN<sub>x</sub>膜の低温作製

135(7) 728-732 2015年筆頭著者
Characterization of TiHfN ternary alloy films as a barrier between Cu plug and Si

Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Eiji Aoyagi, Atsushi Noya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(2) 2014年2月査読有り
Preparation of nanocrystalline HfNx films as a thin barrier for through-Si via interconnects in three-dimensional integration

Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Eiji Aoyagi, Atsushi Noya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(2) 2014年2月査読有り
Reactively Sputtered Nanocrystalline ZrN Film as Extremely Thin Diffusion Barrier between Cu and SiO2

Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Eiji Aoyagi, Atsushi Noya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 49(5) 2010年5月査読有り
Preferentially oriented Cu[111] layer formed on thin Nb barrier on SiO2

Md. Maniruzzaman, Mayumi B. Takeyama, Masaru Sato, Yuichiro Hayasaka, Eiji Aoyagi, Atsushi Noya

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45(12) 9172-9179 2006年12月査読有り

MISC

ZrO₂フィラーの添加量がアクリルレジンの機械的特性に与える影響 1

平沼克己, 佐藤勝, 武山真弓, 武山真弓

日本バイオマテリアル学会大会予稿集(Web) 47th 2025年
室温成膜されたZrO₂膜の特性評価

武山真弓, 武山真弓, 佐藤勝

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2024 2024年
(111)配向させたTaN膜上のCu膜の配向評価

佐藤勝, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2024 2024年
電気的特性を用いたエゾシカ肉の呈味性評価に関する検討

梅村壮一朗, 佐藤勝, 武山真弓, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2021 2021年
抵抗変化メモリのためのHfO₂膜の低温作製

川合祐貴, 佐藤勝, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2021 2021年
植物工場における自動誘引に向けた感知システムの検討

天野渓太, 佐藤勝, 武山真弓, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2021 2021年
日本酒の電気的特性を用いたおいしさ評価の検討

梶原朋也, 佐藤勝, 武山真弓, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2021 2021年
極薄TaWNバリヤ上のCu(111)高配向制御

武山真弓, 佐藤勝, 安田光伸

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2020 2020年
ZrN膜上に成膜したCu(111)優先配向

佐藤勝, 安田光伸, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2020 2020年
Raspberry Piを用いたスマート農業支援

天野渓太, 佐藤勝, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2020 2020年
反応性スパッタ堆積された高抵抗相ZrN_x膜の特性

佐藤勝, 向井高幸, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2020 2020年
Cu(111)配向制御のための極薄バリヤの構造評価

武山真弓, 佐藤勝, 安田光伸

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2020 2020年
IoTを活用したセンシングシステムによるメロンの水耕栽培

天野渓太, 佐藤勝, 武山真弓, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2020 2020年
RFスパッタ法によるTi膜の低温作製

佐藤勝, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2019 2019年
HfN膜を用いたCu膜の配向制御

佐藤勝, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2019 2019年
エゾシカ肉のリアルタイム計測と美味しさ評価

武山真弓, 横川慎二, 佐藤勝, 安井崇

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2019 2019年
エゾシカ肉の電気特性とそのシミュレーション解析

武山真弓, 佐藤勝, 安井崇

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2019 2019年
エゾシカ肉の鮮度評価

武山真弓, 佐藤勝, 安井崇

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2018 2018年
低温作製されたTiNx膜の特性

佐藤勝, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2018 2018年
陽極酸化法を用いた多孔質TiO_x電極の作製

三浦翔太, 佐藤勝, 武山真弓

電子情報通信学会大会講演論文集(CD-ROM) 2017 2017年

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講演・口頭発表等

Control of crystallinity and preferred orientation of TiN films for electrode applications

M. Sato, M. B. Takeyama

2026 International Conference on Solid State Devices and Materials 2026年9月
Thermal Stability of Cu/ZrN/Ru/Si structure for n-TSV

M. Sato, M. B. Takeyama

Advanced Metallization Conference 2024: 33th Asian Session 2024年10月
Low-temperature deposited thin ZrN films for backside Cu interconnect

M. Sato, M. B. Takeyama

2024 International Conference on Solid State Devices and Materials 2024年9月
Low-temperature-deposited HfO2 film for resistive random access memory

Y. Kawai, M. Sato, M. B. Takeyama

Advanced Metallization Conference 2021: 30th Asian Session 2021年10月
Cu(111) preferential orientation on ZrNx films

M. Sato, M. B. Takeyama

Advanced Metallization Conference 2019: 29th Asian Session 2019年10月
Characterization of TiN films sputter-deposited at low temperatures

M. Sato, H. Kitada, M. B. Takeyama

2018 International Conference on Solid State Devices and Materials 2018年9月
ZrNバリヤを用いたCu/層間絶縁膜間の界面制御

平成19年度電子情報通信学会電子部品・材料研究会(CPM) 2007年
Cu/ZrN/SiO2/Si構造における極薄ZrNバリヤの適用

平成19年度電気・情報関係学会北海道支部連合大会 2007年
Cu/SiOC間にZrNバリヤを用いた理想的な界面のあり方の検討

2007年(平成19年)秋季第68回応用物理学会学術講演会 2007年
Application of extremely thin ZrN film as a diffusion barrier between Cu and SiOC

Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies(EM-NANO 2007) 2007年
Hot-wire法におけるラジカル窒化反応させたZrNバリヤの熱的安定性

2007年(平成19年）春季第54回応用物理学関連連合講演会 2007年
Cu/ZrN/SiOC/Si構造における極薄ZrNバリヤの熱的安定性と界面モフォロジー

第42回応用物理学会北海道支部第3回日本光学会北海道支部合同学術講演会 2007年
Interface morphology in Cu/ZrN/SiOC/Si system induced by annealing

Advanced Metallization Conference 2006 : Asian Session 2006年
HW法により成膜させた極薄HfNx膜のCu/SiO2及びCu/SiOC間のバリヤ特性

平成18年度電子情報通信学会電子部品・材料研究会(CPM) 電子情報通信学会技術研究報告 2006年
Si-ULSIにおけるCat(触媒作用)によるラジカル窒化した極薄HfN膜のCu/SiO2間のバリヤ特性

第３回Cat-CVD研究会講演 2006年
45nmノードに対応した極薄ZrN膜のバリヤ特性

2006年(平成18年)春季第53回応用物理学関係連合講演会 2006年

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

次世代3次元LSIのための低消費電力を可能とする高機能裏面配線構造の検討

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2023年4月 - 2026年3月

佐藤勝, 横川慎二, 武山眞弓
極薄バリヤの構造解析における革新的解明とCu配線の配向制御

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2021年4月 - 2024年3月

武山眞弓, 佐藤勝
極微細TSVのための界面層フリーな新規バリヤ材料の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2017年4月 - 2020年3月

佐藤勝, 武山眞弓
3D及び2.5D-ICに適用可能なバリヤレス絶縁膜の低温作製

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2015年4月 - 2018年3月

武山眞弓, 佐藤勝, 野矢厚
45～32nmノードに対応したCu/ナノバリヤ/low-k材料における各界面での界面制御のあり方

科学研究費補助金