講演・口頭発表等

国際会議
2016年7月24日

Effects of gate-electrode metals and postdeposition treatments on the electrical properties of Al2O3/GeO2 gate stack grown on Ge substrate by radical-enhanced atomic layer deposition

ALD 2016 Ireland
  • Yukio Fukuda
    • ,
  • Daichi Yamada
    • ,
  • Yohei Otani
    • ,
  • Chiaya Yamamoto
    • ,
  • Junji Yamanaka
    • ,
  • Tetsuya Sato
    • ,
  • Hiroshi Okamoto
記述言語
英語
会議種別
ポスター発表
開催地
Dublin・Convention Center Dublin
講演・口頭発表等リストへ