2008年4月 - 2010年 熱ナノインプリント対応金属加工用レジスト高分子薄膜の究明 科学研究費助成事業 基盤研究（B) 中川勝 担当区分 研究代表者 配分額 (総額) 18,070,000円 (直接経費) 13,900,000円 (間接経費) 4,170,000円 資金種別 競争的資金
