笠嶋悠司 (Yuji Kasashima) - マイポータル

基本情報

所属: 国立研究開発法人産業技術総合研究所センシングシステム研究センター生産プロセス評価研究チーム

J-GLOBAL ID: 201001065213672391
researchmap会員ID: 6000022440

外部リンク: http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=Y20859998

研究分野

エネルギー / プラズマ応用科学 /

論文

Investigation of the relationship between plasma etching characteristics and microstructures of alumina ceramics for chamber parts

Kasashima Yuji, Tabaru Tatsuo, Matsuda Osamu, Motomura Taisei

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 58(4) 2019年4月査読有り
Development and evaluation of magnesium oxide-based ceramics for chamber parts in mass-production plasma etching equipment

Yuji Kasashima, Kota Tsutsumi, Shinzo Mitomi, Fumihiko Uesugi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(6) 2017年6月査読有り
Wafer Movement and Micro-Arc Discharges: Detection

The Encyclopedia of Plasma Technology 2017年査読有り
Feasibility study of detection of dielectric breakdown of gate oxide film by using acoustic emission method

Yuji Kasashima, Tatsuo Tabaru, Fumihiko Uesugi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(12) 2016年12月査読有り
Evaluation of SF6 reactive ion etching performance with a permanent magnet located behind the substrate based on a simple design concept

Taisei Motomura, Kazunori Takahashi, Yuji Kasashima, Kazuya Kikunaga, Fumihiko Uesugi, Akira Ando

Journal of the Vacuum Society of Japan 59(1) 11-15 2016年査読有り
Increase in size of flaked particles suddenly generated by impulsive force in mass-production plasma etching equipment

Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi

Journal of the Vacuum Society of Japan 59(12) 360-363 2016年査読有り
Monitoring of condition of deposited film causing particles in plasma etching by using practical load impedance monitoring method

Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi

Journal of the Vacuum Society of Japan 59(10) 270-275 2016年査読有り
Monitoring method for deposited film causing particles in mass-production plasma etching process using a load impedance monitoring system

Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi

INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING (ISSM) 2016 PROCEEDINGS OF TECHNICAL PAPERS 2016年査読有り
Feasibility study of monitoring of plasma etching chamber conditions using superimposed high-frequency signals on rf power transmission line

Y. Kasashima, F. Uesugi

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 86(10) 2015年10月査読有り
Monitoring of inner wall condition in mass-production plasma etching process using a load impedance monitoring system

Yuji Kasashima, Hiroyuki Kurita, Naoya Kimura, Akira Ando, Fumihiko Uesugi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 54(6) 2015年6月査読有り
Numerous flaked particles instantaneously generated by micro-arc discharge in mass-production plasma etching equipment

Yuji Kasashima, Taisei Motomura, Natsuko Nabeoka, Funnihiko Uesugi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 54(1) 2015年1月査読有り
Effect of external magnetic field on compact inductively-coupled reactive ion etching reactor

Taisei Motomura, Kazunori Takahashi, Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi, Akira Ando

Journal of the Vacuum Society of Japan 58(10) 392-396 2015年査読有り
Instantaneous generation of many flaked particles caused by micro-arc discharge and detection method using load impedance monitoring system

Yuji Kasashima, Taisei Motomura, Fumihiko Uesugi

2015 Joint e-Manufacturing and Design Collaboration Symposium (eMDC) & 2015 International Symposium on Semiconductor Manufacturing (ISSM) 2015年査読有り
Impulsive force phenomenon of electric field stress causing serious particle contamination in plasma etching equipment

Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(11) 2014年11月査読有り
Transport of a helicon plasma by a convergent magnetic field for high speed and compact plasma etching

Kazunori Takahashi, Taisei Motomura, Akira Ando, Yuji Kasashima, Kazuya Kikunaga, Fumihiko Uesugi, Shiro Hara

JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 47(42) 2014年10月査読有り
Detection of microarc discharge using a high-speed load impedance monitoring system

Yuji Kasashima, Taisei Motomura, Hiroyuki Kurita, Naoya Kimura, Fumihiko Uesugi

APPLIED PHYSICS EXPRESS 7(9) 2014年9月査読有り
Many flaked particles caused by impulsive force of electric field stress and effect of electrostriction stress in mass-production plasma etching equipment

Yuji Kasashima, Natsuko Nabeoka, Taisei Motonnura, Fumihiko Uesugi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(4) 2014年4月査読有り
Real-time characteristic impedance monitoring for end-point and anomaly detection in the plasma etching process

Taisei Motomura, Yuji Kasashima, Fumihiko Uesugi, Hiroyuki Kurita, Naoya Kimura

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(3) 2014年3月査読有り
In-situ detection method for wafer movement and micro-arc discharge around a wafer in plasma etching process using electrostatic chuck wafer stage with built-in acoustic emission sensor

Yuji Kasashima, Tatsuo Tabaru, Mitsuo Yasaka, Yoshikazu Kobayashi, Morito Akiyama, Natsuko Nabeoka, Taisei Motomura, Shingo Sakamoto, Fumihiko Uesugi

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(3) 2014年3月査読有り
Note: Practical monitoring system using characteristic impedance measurement during plasma processing

T. Motomura, Y. Kasashima, O. Fukuda, F. Uesugi, H. Kurita, N. Kimura

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 85(2) 2014年2月査読有り

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MISC

プラズマの負荷インピーダンスを利用したプロセス中の異常放電の検出技術 (小特集半導体デバイスの製造品質を裏から支えるプロセスプラズマの隠れた技術)

國家真治, 佐藤周作, 木村直也, 若本悟, 笠嶋悠司, 本村大成, 田原竜夫, 上杉文彦

96(3) 117-121 2020年3月
特性インピーダンスモニタリングによる異常検出の試み

本村大成, 笠嶋悠司, 福田修, 上杉文彦, 栗田裕之, 木村直也

電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2013(104) 11-13 2013年9月5日
量産用プラズマエッチング装置における剥離パーティクルの突発的多量発生

笠嶋悠司, 鍋岡奈津子, 本村大成, 上杉文彦

電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2013(104) 15-19 2013年9月5日
高感度特性インピーダンス測定システム : 生産ラインの早期異常検出のための高感度プラズマモニタリング法

本村大成, 笠嶋悠司, 上杉文彦

検査技術 18(8) 9-14 2013年8月
半導体製造およびプラズマ・バイオ科学のためのプラズマ源に関する研究 (有機エレクトロニクス)

本村大成, 笠嶋悠司, 上杉文彦, 菊永和也, 福田修

電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報 112(456) 5-7 2013年3月5日

笠嶋悠司

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