MISC

2010年10月14日

自動化超高速化量子分子動力学法の開発とシリコン酸化膜形成の反応解析への応用

電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス
  • 坪井 秀行
  • 稲葉 賢二
  • 伊勢 真理子
  • 林 由紀江
  • 鈴木 裕佳
  • 佐藤 裕美
  • 小原 幸子
  • 南雲 亮
  • 三浦 隆治
  • 鈴木 愛
  • 畠山 望
  • 遠藤 明
  • 高羽 洋充
  • 久保 百司
  • 宮本 明
  • 全て表示

110
241
開始ページ
67
終了ページ
68
記述言語
日本語
掲載種別
出版者・発行元
一般社団法人電子情報通信学会

外部の量子化学計算プログラムを呼び出してエネルギー計算を行い得られた原子間エネルギーを元に分子動力学用ポテンシャルパラメータをフィッティングする機能を既存の分子動力学計算プログラムに導入することで,化学反応を考慮した分子動力学シミュレーションの実現に成功した.この新開発プログラムを用いることによりシリコン表面の酸化反応プロセスのダイナミクスを解析することが可能となった.

リンク情報
CiNii Articles
http://ci.nii.ac.jp/naid/110008106359
CiNii Books
http://ci.nii.ac.jp/ncid/AN10013254
ID情報
  • CiNii Articles ID : 110008106359
  • CiNii Books ID : AN10013254

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