論文

査読有り筆頭著者責任著者

2017年3月

Polishing-pad-free electrochemical mechanical polishing of single-crystalline SiC surfaces using polyurethane–CeO₂ core–shell particles

International Journal of Machine Tools and Manufacture

Junji Murata
Koushi Yodogawa
Kazuma Ban

巻: 114
号
開始ページ: 1
終了ページ: 7
記述言語: 英語
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
DOI: 10.1016/j.ijmachtools.2016.11.007

リンク情報

DOI: https://doi.org/10.1016/j.ijmachtools.2016.11.007
Web of Science: https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=JSTA_CEL&SrcApp=J_Gate_JST&DestLinkType=FullRecord&KeyUT=WOS:000394072500001&DestApp=WOS_CPL
URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=85004091326&origin=inward

ID情報

DOI : 10.1016/j.ijmachtools.2016.11.007
ISSN : 0890-6955
eISSN : 1879-2170
SCOPUS ID : 85004091326
Web of Science ID : WOS:000394072500001

エクスポート: BibTeX RIS

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