石田 浩一

フォトリソグラフィーを用いた薄膜インダクタの試作 

（電子情報通信学会、総合大会講演論文集、1999年）  

パルスプラズマCVD法によるSiN膜の定温合成 

（山口県工業技術センター研究報告第７号、1995年）  

Modification of a Carbon Electrode Surface by Cold Plasma Treatment for Electric Double Layer Capacitors 

(Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol.496 , Materials Research Society ,655-660,1998)  

ECRスパッタ法によるCo-Cr垂直磁気ディスクの作製 

（山口県工業技術センター研究報告第11号、1999年）