佐々木克孝 (Katsutaka Sasaki) - マイポータル

基本情報

所属: 北見工業大学工学部マテリアル工学科名誉教授

学位: 工学博士(北海道大学)

J-GLOBAL ID: 200901052389763576
researchmap会員ID: 1000002793

研究キーワード

研究分野

経歴

1979年 - 1990年

北見工業大学助教授
1979年 - 1990年

北見工業大学
1990年

- 北見工業大学教授
1990年

- Kitami Institute of Technology, Professor
1975年 - 1979年

北見工業大学講師
1975年 - 1979年

北見工業大学

学歴

- 1967年

北海道大学, 理学部, 高分子学
- 1967年

北海道大学

MISC

240

Effects of Sputtering Gas Pressure on Electrochromic Properties of Ni Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering in H2O Atmosphere

Yoshio Abe, Hideaki Ueta, Takeshi Obata, Midon Kawamura, Katsutaka Sasaki, Hidenobu Itoh

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 49(11) 115802-1-115802-4 2010年11月
Dielectric Properties of Zr-Al Anodized Thin Film Capacitors Prepared Using Al-Doped Zr Alloy Films

Hidefumi Kimizaki, Satoko Shinkai, Katsutaka Sasaki, Hideto Yanagisawa, Misao Yamane, Yoshio Abe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 49(10) 10501-1-10501-5 2010年
Improved Thermal Stability of Ag Thin Films by Organic Subnanolayer at Interface with Silicon Oxide Layer

Midori Kawamura, Terumasa Fudei, Yoshio Abe, Katsutaka Sasaki

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48(11) 118002 2009年11月
Loss Properties of Anodized Thin-Film Capacitors Fabricated Using Hf-Doped Nb Alloy Films

Tomoharu Shibata, Hidefumi Kimizaki, Satoko Shinkai, Katsutaka Sasaki, Hideto Yanagisawa, Misao Yamane, Yoshio Abe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48(8) 085504(4 pages) 2009年8月
Thermally stable very thin Ag films for electrodes

M. Kawamura, D. Fukuda, Y. Inami, Y. Abe, K. Sasaki

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A 27(4) 975-978 2009年7月
Ni Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering Using O-2 + H2O Mixed Gas

Hideaki Ueta, Yoshio Abe, Kiyohiko Kato, Midori Kawamura, Katsutaka Sasaki, Hidenobu Itoh

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 48(1) 015501(4 pages) 2009年1月
Thermally Stable Ag Thin Films Modified with Very Thin Al Oxide layers

Midori Kawamura, Yuuki Inami, Yoshio Abe, Katsutaka Sasaki

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47(12) 8917-8920 2008年12月
Formation process of Al2O3 thin film by reactive sputtering

Y. Chiba, Y. Abe, M. Kawamura, K. Sasaki

VACUUM 83(3) 483-485 2008年10月
Ion conducting properties of hydrogen-containing Ta2O5 thin films prepared by reactive sputtering

Yoshio Abe, Naruhiro Itadani, Midori Kawamura, Katsutaka Sasaki, Hidenobu Itoh

VACUUM 83(3) 528-530 2008年10月
Effects of substrate cooling during sputter deposition of hydrogen-containing Ta2O5 thin films in H2O atmosphere on their ion conductivity

Yoshio Abe, Fei Peng, Yasuhiro Takiguchi, Midori Kawamura, Katsutaka Sasaki, Hidenobu Itoh, Tsutomu Suzuki

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47(9) 7269-7271 2008年9月
Crystal Orientation of Epitaxial α-Ta(110) Thin Films Grown on Si(100) and Si(111) Substrates by Sputtering

Japanese Journal of Applied Physics 47(7) 5608-5612 2008年7月
Crystal orientation of epitaxial alpha-Ta(110) thin films grown on Si(100) and Si(111) substrates by sputtering

Masahiro Kudo, Satoko Shinka, Hideto Yanagisawa, Katsutaka Sasaki, Yoshio Abe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47(7) 5608-5612 2008年7月
Epitaxial growth of (0001)Ru thin films on (111)ZrN/(111)Si by low-temperature process and their surface morphologies

Junpei Sakurai, Katsutaka Sasaki, Hideto Yanagisawa, Satoko Shinkai, Yoshio Abe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47(3) 1667-1671 2008年3月
Comparison of the agglomeration behavior of Ag(Al) films and Ag(Au) films

K. Sugawara, M. Kawamura, Y. Abe, K. Sasaki

MICROELECTRONIC ENGINEERING 84(11) 2476-2480 2007年11月
Target-surface compound layers formed by reactive sputtering of Si target in Ar+O-2 and Ar+N-2 mixed gases

Yoshio Abe, Takaya Takisawa, Midori Kawamura, Katsutaka Sasaki

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 46(10A) 6778-6781 2007年10月
Preparation of thin-film capacitor with high reliability by anodization of Zr-Al alloy film

Naohiro Mikuni, Tomoharu Shibata, Satoko Shinkai, Katsutaka Sasaki, Hideto Yanagisawa, Misao Yamane, Yoshio Abe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 46(8A) 5249-5253 2007年8月
Preparation of Hydrogen-Containing Ta₂O₅ Thin Films by Reactive Sputtering Using O₂+H₂O Mixed Gases

ABE Yoshio, ITADANI Naruhiro, KAWAMURA Midori, SASAKI Katsutaka, ITOH Hidenobu

Japanese Journal of Applied Physics 46(2) 777-779 2007年
Preparation of Hydrogen-Containing Ta₂O₅ Thin Films by Reactive Sputtering Using O₂+H₂O Mixed Gases

Japanese Journal of Applied Physics 46(2) 777-779 2007年
Epitaxial growth of (111)ZrN thin films on (111)Si substrate by reactive sputtering and their surface morphologies

Hideto Yanagisawa, Satoko Shinkai, Katsutaka Sasaki, Junpei Sakurai, Yoshio Abe, Akira Sakai, Shigeaki Zaima

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 297(1) 80-86 2006年12月
Effect of substrate temperature on epitaxial orientation of Rh thin films sputtered on A-plane sapphire

Myohiko Kato, Katsutaka Sasaki, Yoshio Abe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45(9A) 7097-7099 2006年9月

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書籍等出版物

透明導電膜

シーエムシー出版 2005年 (ISBN: 4882318601)
Trasparent Conductive Films

CMC Corporation 2005年 (ISBN: 4882318601)
透明導電膜の新展開第9章 TiN薄膜〜透明導電膜への適用可能〜

(株)シーエムシー 1999年
Developments of Trasparent Conductive Films: Chapter 9: TiN Thin Film〜Applicability to Transparent Conductive Film〜

CMC Corporation 1999年
Developments of Trasparent Conductive Films: Chapter 9: TiN Thin Film〜Applicability to Transparent Conductive Film〜

CMC Corporation

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Works(作品等)

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Application of anodic oxide film to electronic devices

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Heteroepitaxial growth of thin films and evaluation of surface morphologies

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