後藤 孝
ゴトウ タカシ (Takashi Goto)
更新日: 04/14
その他
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2011年6月 - 2011年6月サーメット基材コーティング工具に適用可能なセラミックスコーティングプロセスとして、本研究室が新規に開発したレーザーCVDを用いて低温でc軸配向した高結晶性アルミナコーティングプロセスの確立を目指す。
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2010年6月 - 2010年6月サーメット基材コーティング工具に適用可能なセラミックスコーティングプロセスとして、本研究室が新規に開発したレーザーCVDを用いて低温でc軸配向した高結晶性アルミナコーティングプロセスの確立を目指す。
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2009年8月 - 2009年8月WC-CoおよびTiN-Ni工具材料に、CVDによりTiNコーティングを行い、合成条件を種々変化させ、最適合成条件を明らかにするとともに、TiNコーティング中へのCoおよびNiの拡散挙動を明らかにする。
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2009年7月 - 2009年7月サーメット基材コーティング工具に適用可能なセラミックスコーティングプロセスとして、本研究室が新規に開発したレーザーCVDを用いて低温でc軸配向した高結晶性アルミナコーティングプロセスの確立を目指す。
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2008年10月 - 2008年10月サーメット基材コーティング工具に適用可能なセラミックスコーティングプロセスとして、本研究室が新規に開発したレーザーCVDを用いて低温でc軸配向した高結晶性アルミナコーティングプロセスの確立を目指す。
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2007年11月 - 2007年11月サーメット基材コーティング工具に適用可能なセラミックスコーティングプロセスとして、本研究室が新規に開発したレーザーCVDを用いて低温でc軸配向した高結晶性アルミナコーティングプロセスの確立を目指す。
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2007年6月 - 2007年6月異種材料のインテグレーション、異分野のインテグレーション、基礎と応用のインテグレーションなどを通して、世界を相手に産業界的にも通用する若手研究者の育成を目指す。
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2006年9月 - 2006年9月新規のレーザーCVDを用いて各種セラミックス膜を1時間あたり数100μm以上の成膜速度でコーティングできる技術の開発を目的とする。
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2001年10月 - 2001年10月高精度、高信頼性を有する電解質酸素センサーを開発することにより、核変換用溶 融鉛ビスマス環境下における防食被膜の形成に不可欠な最適酸素濃度、その場制御技 術を確立することを目的とする。低温で作動できる電解質用電極を試作し、溶融鉛ビ スマス浸漬後に酸素センサーの特性評価試験、電解質の熱衝撃特性評価試験、力学特 性評価試験を行う。
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2001年10月 - 2001年10月高温ガスタービンの遮熱特性を向上するための、セラミックスコーティング技術を開 発することを目的とする。従来法の大気圧溶射法や電子ビーム物理蒸着法に変わる新 しい方法として、レーザーCVD法を提案し、本法により作製したイットリア安定化ジル コニアコーティングの成膜条件、ナノ構造を調べ、遮熱特性とナノ構造との関係を明 らかにし、最適コーティングプロセスを確立する。
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2001年10月 - 2001年10月高温ガスタービンの遮熱特性を向上するための、セラミックスコーティング技術を開 発することを目的とする。従来法の大気圧溶射法や電子ビーム物理蒸着法に変わる新 しい方法として、レーザーCVD法を提案し、本法により作製したイットリア安定化ジル コニアコーティングの成膜条件、ナノ構造を調べ、遮熱特性とナノ構造との関係を明 らかにし、最適コーティングプロセスを確立する。