特許権
Method for fabricating a SiC film and a method for fabricating a SiC multi-layered film structure
東北大学長
- 出願番号
- 2356229
- 出願日
- 2001年8月29日
- 特許番号/登録番号
- 2356229
- 登録日
- 発行日
- 2004年10月26日
末光 眞希
スエミツ マキ (Maki Suemitsu)
更新日: 2022/10/02