MISC

1998年

Effect of Arc Current and Voltage on Production Rate of Copper Ultrafine Particles by Ar-H₂ Arc Plasma Method.

Journal of Japan Institute of Metals

SAITOU KATUO

巻: 62/12,1117
号
DOI: 10.2320/jinstmet1952.62.12_1117

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DOI: https://doi.org/10.2320/jinstmet1952.62.12_1117

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DOI : 10.2320/jinstmet1952.62.12_1117

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