杉田和之 (Kazuyuki Sugita) - マイポータル

基本情報

所属: 旧所属千葉大学工学部共生応用化学科教授

学位: 工学博士(東京大学)

J-GLOBAL ID: 200901005745256929
researchmap会員ID: 1000010507

外部リンク: http://www.eng.chiba-u.ac.jp/homepage/japanese/menu/corepage.ltm

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研究分野

経歴

1975年 - 1989年

千葉大学工学部助教授
1975年 - 1989年

Assoc. Prof., Fac. Eng., Chiba Univ.
1989年

- 千葉大学工学部教授
1989年

- オンタリオ材料研究センター客員研究者
1989年

- Professor, Fac. Eng., Chiba Univ.
1989年

- Ontario Research Center for Mat. Sci., Visiting Scientist
1973年 - 1975年

トロント大学・化学科・博士研究員
1973年 - 1975年

Univ. of Toronto, Dept. of Chem. Postdoc.
1968年 - 1975年

千葉大学工学部助手
1968年 - 1975年

Res. Assoc., Fac. Eng., Chiba Univ.

学歴

委員歴

受賞

1991年

(社)日本写真学会グラフィック・アーツ賞

MISC

A Surface Silylated Single-layer Resist Using Chemical Amplification for Deep UV and Vacuum UV Lithography: Ⅲ. Optimization of PAG and Its Content

Kazuyuki Sugita, Hiroshi Miyata, Kieko Harada, Masahito Kushida, Kyoichi Saito

J. Photopolymer Sci.Technol. 17(3) 373-378 2004年
Photodegradable Toners for Electrophotography III. Accelerated Photodegradation and Suppressed Photocrosslinking of Matrix Resin－Their Dependence on Polymer Composition, UV-light Source, and Irradiation Conditions, .

Polymer J. 35(12), 985-992 2003年
A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography

Kazuyuki SUGITA, Masahiro YAMASHITA, Kieko HARADA, Masahito KUSHIDA, Kyoichi SAITO

J. Photopolym. Sci. Technol. 15(3) 367-370 2002年
A Surface-Silylated Single-layer Resist Using Chemical Amplification for Deep Ultraviolet Lithography : II. Limited Permeation of Si Compounds from Liquid Phase

Jpn. J. Appl. Phys., Part1 40(11) 6658-6662 2001年
A surface-silylated single-layer resist using chemical amplification: A new simpler alternative for multilayer resist system

Kazuyuki Sugita, Masakuni Ikagawa, Liew Chan Ming, Masahiro Yamashita, Kieko Harada, Masahito Kushida, Kyoichi Saito

Journal of Photopolymer Science and Technology 13(4) 535-538 2000年
"Photodegradable Toners for Electrophotography Ⅱ. Accelerated Photodegradation of Matrix Resin by DUV-Exposure at An Elevated Temperature"

Polymer J. 32(4) 330-333 2000年
"A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Ultra-Violet Lithography : 1. Limited Permeation of Si Compounds from Vapor Phase"(jointly worked)

Kazuyuki Sugita, Masakuni Ikagawa, Kieko Harada, Masahito Kushida, Kyoichi Saito

Jpn. J. Appl. Phys., part 1, 39(2A) 669-674 2000年
Enhancement of Dry-Etching Durabilities by Energy or Etchant Quenching with Aliphatic, Aromatic and Alicyclic Homopolymers, Polymer Blends and Copolymers(jointly worked)

Jpn. J. Appl. Phys. 38(7B) 4483-4487 1999年
微細加工用レジストの最近のトピックス-化学増幅型表層パターニングプロセス

杉田和之

機能材料 18(3) 37-45 1998年
"Energy Quenching Effects on Dry-etching Durability of Copolymers and Polymer Blends of Vinylnaphthalene or a-Methyl Styrene with Methyl Methacrylate" (jointly worked)

Jpn. J. Appl. Phys. 37(2) 715-719 1998年
Recent Topics of Resists for Microlithography-Surface Imaging by the Use of Chemical Amplification-

Function and Materials 18(3) 37-45 1998年
"Application of Photodegradable Polymers to Imaging and Microfabrication Technologies"

Prog. Org. Coatings, 31 87-95 1997年
光崩壊性ポリマーの情報記録への応用--最近4年間の文献調査レビュー--

杉田和之

機能材料 16(10) 5-20 1996年
"Application of Diazo Complex with 18-Crown-6 to Visible Light Emission Film" (jointly worked)

Kieko HARADA, Masahito KUSHIDA, Kazuyuki SUGITA

J. Soc. Photogr. Sci. Technol. Japan 59(6) 705-710 1996年
Application of Photodegradable Polymers to Information Recording--A Review of Research Papers Published in Recent 4 Years--

16(10) 5-20 1996年
Photodegradable Toners for Electrophotography I. Photodegradability of Matrix Resin(jointly worked)

Polymer J. 28(7) 637-638 1996年
Photolsis of Unsubstituted and p-Methoxycarbonyl Substituted 2-Methyl-1-phenylprop-2-en-1-one Copolymers in Solution(jointly worked)

J.Polymer Sci.: Polymer Chem. 34(5) 789-799 1996年
Photodegradation Mechanism of Phenyl Isopropenyl Ketone-Methyl Methacrylate Copolymers in Solid and Their Performance as A Deep UV Resist(jointly worked)

Can. J. Chem. 73(11) 1841-1848 1995年
Dry-Etching Durability of Copolymers and Polymer Blends of Vinyl-naphthalene or α-Methylstyrene with Methyl Methacrylate(jointly worked)

Jpn. J. Appl. Phys. 34(8A) 4234-4238 1995年
Site Specific Photochemical Reaction of PMMA by Core Electron Excitation(jointly worked)

Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 32, Suppl. 32-2 229-231 1993年

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書籍等出版物

A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for DUV Lithography: Ⅲ. Preliminary Results of Optimization of PAG and Its Content

Proc. of 13th Inter'l Conf. on Photopolymers(Oct. 20-22,2003,Taminent,PA,USA),Eds. H. Ito,P.R. Varanasi, M. M. Khojasteh, and R. Chen,(Soc. Plastics Eng. Inc., Mid Hudson Section, Hopewell Junction, NY,2004) 2004年
A Surface-Sylilated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for DUV Lithography: Limited Permeation of Si Compounds from Vapor and Liquid Phases，Forefront of Lithographic Materials Research

Proc. of 12th Intern'l Conf. on Photopolymers, Oct. 16-18, 2000, McAfee, NJ, USA), Eds. H. Ito, M. M. Khojasteh and W. Li, (Soc. of Plastics Eng., Mid-Hudson Section, Hopewell Junction, NY, 2001) 2001年
"表層イメージング-波長より微細なパターン形成を目指して-"

『新しい半導体製造プロセスと材料』(シーエムシー,2000) 2000年
Surface Imaging-Targeting the formation of a finer pattern than the wavelength of the transferring light

New Process and Materials for Semiconductor Device Manufacturing. 2000年
Highly Photosensitive Diazo Compounds as Photoacid Generators for Chemically Amplified Resists(jointly worked)

Micro- and Nanopatterning Polymers(ACS Symp. Ser. #706) 1998年
Mechanism of UV - and VUV-Induced Etching of Poly(methyl methacrylate)(jointly worked)

Polymers in Microlithography (ACS Symp. Ser. #412 Amer. Chem. Soc. ) 1989年

所属学協会

Works(作品等)

表層改質によるレジストパターン形成

2000年 - 2004年
Resist Pattern Formation by Surface Imaging

2000年 - 2004年

共同研究・競争的資金等の研究課題

微細加工用レジストの高機能化

1987年
Perfomance Enhancement of Resists for Microlithography

R and D Funds to Encourage Competition among Research Institutes 1987年
Preparation of Novel Photodegradable Polymers and Their Application to Information Recording

1973年
新しい崩壊性フォトポリマーの合成と情報記録への応用

1973年
Preparation of Novel Photodegradable Polymers and Their Application to Information Recording
Perfomance Enhancement of Resists for Microlithography
新しい崩壊性フォトポリマーの合成と情報記録への応用
微細加工用レジストの高機能化

杉田和之

基本情報

研究キーワード

研究分野

経歴

学歴

委員歴

受賞

MISC

書籍等出版物

所属学協会

Works(作品等)

共同研究・競争的資金等の研究課題

産業財産権

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