佐藤浩太 (Kota Sato) - マイポータル

基本情報

学位: 工学博士(東京大学)

J-GLOBAL ID: 200901060336191670
researchmap会員ID: 1000010554

外部リンク: http://www.chem.ynu.ac.jp/lab/ksato

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研究分野

経歴

学歴

- 1984年

東京大学工学系研究科工業化学
- 1979年

東京大学工学部工業化学

論文

Theoretical Study on a Stable Structure and Hydrogen Adsorption of Hexagonal Boron Phosphide based on Density Functional Theory

Kota Sato, Masakazu Sasaki, Haruka Asano

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 52(12) 125801-1-5 2013年12月査読有り
Ab Initio Molecular Orbital Study on Acceleration Mechanism of Silane Plasma Chemical Vapor Deposition by Diborane

Kota Sato, Yasuyo Kubota

APPLIED PHYSICS EXPRESS 4(5) 056202 2011年5月査読有り
An Ab initio Molecular Orbital Study on F Radical Reactions to Graphite Surface and the Subsequent Etching Process

Eiji SHinagawa

6th INternational Conference on Reactive Plasmas 479-480 2006年査読有り
Thermoelectric properties of photo- and thermal CVD boron and boron phosphide films

Y Kumashiro, T Enomoto, K Sato, Y Abe, K Hirata, T Yokoyama

JOURNAL OF SOLID STATE CHEMISTRY 177(2) 529-532 2004年2月査読有り
The properties of B-Sb thin films prepared by molecular flow region PVD process

Y Kumashiro, K Nakamura, K Sato, M Ohtsuka, Y Ohishi, M Nakano, Y Doi

JOURNAL OF SOLID STATE CHEMISTRY 177(2) 533-536 2004年2月査読有り
The preparation and thermoelectric properties of molten salt electrodeposited boron wafers

Y Kumashiro, S Ozaki, K Sato, Y Kataoka, K Hirata, T Yokoyama, S Nagatani, K Kajiyama

JOURNAL OF SOLID STATE CHEMISTRY 177(2) 537-541 2004年2月査読有り
Ab initio molecular orbital study on hydrogen radical addition reactions to graphite surface and subsequent initial surface process in silane plasma chemical vapor deposition

K Sato, E Shinagawa, K Nakajima, K Miyazaki, H Koinuma

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 42(12) 7478-7481 2003年12月査読有り
The preparation of B-Sb thin films by molecular flow region PVD process

Y Kumashiro, K Nakamura, Y Doi, K Hirata, T Yokoyama, K Sato

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 237 1531-1535 2002年4月査読有り
Preparation of boron and boron phosphide films by photo- and thermal chemical vapor deposition processes

Y Kumashiro, K Sato, S Chiba, S Yamada, D Tanaka, K Hyodo, T Yokoyama, K Hirata

JOURNAL OF SOLID STATE CHEMISTRY 154(1) 39-44 2000年10月
Thermoelectric properties of boron and boron phosphide films

K Kumashiro, K Hirata, K Sato, T Yokoyama, T Aisu, T Ikeda, M Minaguchi

JOURNAL OF SOLID STATE CHEMISTRY 154(1) 26-32 2000年10月査読有り
Electrical and thermal properties of B12P2 wafers

Y Kumashiro, T Yokoyama, K Sato, Y Ando, S Nagatani, K Kajiyama

JOURNAL OF SOLID STATE CHEMISTRY 154(1) 33-38 2000年10月
Structures of the main precursors and initial decomposition products of diborane chemical vapor deposition: an experimental and ab initio molecular orbital study

K Sato, N Kanda, T Ogata, Y Kumashiro

CHEMICAL PHYSICS LETTERS 325(4) 453-456 2000年7月
Substrate temperature dependence of the surface reaction mechanism of methane plasma chemical vapor depositon: Experimental and ab initio molecular orbital study

K Sato, SH Cheng, H Haruta, T Yokoyama, Y Kumashiro

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 39(5A) 2843-2846 2000年5月
Plasma-chemical vapor deposition of wide band gap a-SiC : H films: An ab initio molecular-orbital study

SH Cheng, K Sato, Y Kumashiro

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 87(8) 4031-4035 2000年4月
ラジカル重合ハンドブック

エヌ・ティー・エス 1999年
Composition Control of Boron Phosphide Films Based on a QUantum CHemical Reaction Design of Electron-Molecule Collision in B2H6/Ph3 PLasma CVD

Daichi Tanaka, Masaki Akada, Takashi Yokoyama, Yukinobu Kumashiro

Symposium on Electron-Molecule Collisions and Swarms 107-108 1999年査読有り
An ab initio molecular-orbital study an hydrogen-abstraction reactions at the growing surface of hydrogenated amorphous silicon

K Nakajima, K Miyazaki, H Koinuma, K Sato

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 84(1) 606-610 1998年7月
An ab-initio molecular-orbital analysis on the initial plasma CVD process of a-Si : H film on glass substrate

K Miyazaki, K Nakajima, K Sato, H Koinuma

THIN SOLID FILMS 316(1-2) 134-138 1998年3月
Ab initio molecular-orbital study on the surface reactions of methane and silane plasma chemical vapor deposition

K Sato, H Haruta, Y Kumashiro

PHYSICAL REVIEW B 55(23) 15467-15470 1997年6月
Highly cross-linked polymer networks of amorphous silicon alloys: Quantum chemical studies on plasma and photochemical processes

K Sato, H Koinuma

PROGRESS IN POLYMER SCIENCE 21(2) 255-297 1996年

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MISC

Highly cross-linked polymer networks of amorphous silicon alloys: Quantum chemical studies on plasma and photochemical processes

K Sato, H Koinuma

PROGRESS IN POLYMER SCIENCE 21(2) 255-297 1996年
高分子鎖の量子化学

佐藤浩太

化学と工業 46 1753 1993年
プラズマCVDにおける分子設計

佐藤浩太

CICSJ Bulletin 10 24-27 1992年
量子化学による薄膜CVDの反応設計と解析

佐藤浩太, 鯉沼秀臣

化学 45 508-509 1990年
シラン類のCVDの量子化学的解析

佐藤浩太

化学と工業 42 2053-2054 1989年

書籍等出版物

ベーシクマスター物理化学

築山光一, 一國伸之, 近藤寛 (担当:共著, 範囲:水素分子)

オーム社 2012年4月5日 (ISBN: 4274211789)
ラジカル重合ハンドブック

蒲池幹治, 遠藤剛 (担当:共著)

エヌティーエス社 1999年8月10日 (ISBN: 4900830410)
Progress in Organosilicon Chemistry

Hideomi Koinuma, Kota Sato (担当:共著)

Gordon & Breach 1995年
New Functionality Materials

Y. Ypshida, H. Koinuma (担当:共著)

Elsevier 1993年 (ISBN: 044481616X)
Plasma properties, deposition and etching

Trans Tech Publications 1993年 (ISBN: 087849670x)
光薄膜技術マニュアル

鯉沼秀臣 (担当:共著)

オプトロニクス社 1992年8月31日

講演・口頭発表等

量子化学に基づくSiCナノシートの層間相互作用についての研究

木梨佑哉, 佐藤浩太

分子科学討論会 2017年9月17日分子科学会
量子化学に基づくSiCおよびSiGeナノシートの構造と反応性の研究

平見拓哉, 高橋遼太郎, 佐藤浩太

分子科学討論会、東京 P118 2015年9月平見拓哉、高橋遼太郎、佐藤浩太
量子化学に基づくゲルマネンの電子状態と反応性の研究

星野大輔, 佐藤浩太

分子科学討論会、広島 2=095 2014年9月
量子化学に基づくシリセンの多層間における相互作用の研究

浅野悠, 佐藤浩太

分子科学討論会 2P123 2013年9月

佐藤浩太

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研究キーワード

研究分野

経歴

学歴

論文

MISC

書籍等出版物

講演・口頭発表等

担当経験のある科目(授業)

共同研究・競争的資金等の研究課題

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