2000年
Deposition of Smooth Thin Cu Films in Deep Submicron Trench by Plasma CVD Reactor with H Atom Source (jointly worked)
Materials Research Society Symposium Proceedings
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- 巻
- 612
- 号
- 開始ページ
- D9.2
- 終了ページ
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- DOI
- 10.1557/PROC-612-D9.2.1
- ID情報
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- DOI : 10.1557/PROC-612-D9.2.1