査読有り 国際誌 2015年10月 Measurement of absolute density of N atom in sputtering plasma for epitaxial growth ZnO films via nitrogen mediated crystallization Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP T. Ide K. Matsushima T. Takasaki K. Takeda M. Hori D. Yamashita H. Seo K. Koga M Shiratani N. Itagaki … 全て表示 折りたたむ 巻 60 号 9 記述言語 英語 掲載種別 エクスポート BibTeX RIS