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2018年9月15日

High-temperature thermal annealing of nonpolar (10(1)over-bar0) AlN layers sputtered on (1 0(1)over-bar0) sapphire

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH

Dinh Duc V
Hu Nan
Honda Yoshio
Amano Hiroshi
Pristovsek Markus

巻: 498
号
開始ページ: 377-380
終了ページ
記述言語: 英語
掲載種別: 速報，短報，研究ノート等（学術雑誌）
DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2018.07.015

リンク情報

DOI: https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2018.07.015

ID情報

DOI : 10.1016/j.jcrysgro.2018.07.015
ISSN : 0022-0248

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