MISC

2010年

Dependence of Al concentration on Al Doped ZnO Films Prepared by Using Atmospheric Cold Plasma

Frontier of Applied Plasma Technology
  • SUZAKI Yoshifumi
    • ,
  • MIYAGAWA Hayato
    • ,
  • OBIKA Atsuo
    • ,
  • KAWAGUCHI Akiou
    • ,
  • SHIKAMA Tomokazu
    • ,
  • YUJI Toshifumi
巻
3
号
1
開始ページ
23
終了ページ
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