1991年
Crystal structure of Si1-xCx films by plasma-enhanced chemical vapor deposition at 700℃(共著)
Journal of Applied Physics
- 巻
- 69
- 号
- 11
- 開始ページ
- 7945
- 終了ページ
- 7947
- DOI
- 10.1063/1.347490
- リンク情報
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- DOI
- https://doi.org/10.1063/1.347490
- CiNii Articles
- http://ci.nii.ac.jp/naid/30015823957
- ID情報
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- DOI : 10.1063/1.347490
- ISSN : 0021-8979
- CiNii Articles ID : 30015823957