日下一也 (Kazuya Kusaka) - マイポータル - researchmap

基本情報

所属: 徳島大学工学部機械工学科助手

学位: 修士(工学)(徳島大学)

J-GLOBAL ID: 200901066238108690
researchmap会員ID: 1000182443

外部リンク: http://www.me.tokushima-u.ac.jp/xray/member/kusa/kusaka.htm

研究キーワード

6

研究分野

2

経歴

2

1995年

- 徳島大学助手
1995年

- Tokushima University, Research Assistant

学歴

4

委員歴

1

1999年

日本材料学会 X線材料強度部門委員会幹事,企画事業委員会委員

受賞

1

1994年

日本材料学会論文賞

MISC

23

創造基礎能力とプレゼンテーション技術を高めるための教育方法

工学教育 50(3), 98-103 2002年
Effect of Sputtering Gas Pressure and Nitrogen Concentration on Crystal Orientation and Residual Stress in Sputtered AlN Films

Vacuum 661(), 441-446 2002年
Effect of Sputtering Gas Pressure and Nitrogen Concentration on Crystal Orientation and Residual Stress in Sputtered AlN Films

Vacuum 661(), 441-446 2002年
アーク・イオン・プレーティング法により堆積した室化クロム膜の結晶配向性と残留応力

英文誌「材料」特別号 299-302 2001年
Crystal Orientation and Residual Stress in Chromium Nitride Films Deposited by Arc Ion Plating

Material Science Research International, Special Technical Publication-1 299-302 2001年
Effect of input power on crystal orientation and residual stress in AlN film deposited by dc sputtering

K Kusaka, D Taniguchi, T Hanabusa, K Tominaga

VACUUM 59(2-3) 806-813 2000年11月
直流2極スパッタリング法により堆積したAlN膜の結晶配向性と残留応力の供給電力依存性

真空 59 806-813 2000年
Effect of external magnetic field on c-axis orientation and residual stress in AlN films

K Kusaka, T Ao, T Hanabusa, K Tominaga

THIN SOLID FILMS 332(1-2) 247-251 1998年11月
窒化アルミニウム膜のC軸配向性と残留応力の外部磁場効果

薄膜 332 247-251 1998年
交替式スパッタリング法によるAlN膜の残留応力測定

材料 46(12) 1429-1435 1997年
Residual stress measurement in AlN film deposited by alternating sputtering method

Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga, Takahiro Ao

Zairyo/Journal of the Society of Materials Science, Japan 46(12) 1429-1435 1997年
Effect of a plasma protection net on residual stress in AlN films deposited by a magnetron sputtering system

K Kusaka, T Hanabusa, K Tominaga

THIN SOLID FILMS 290 260-263 1996年12月
Residual stress and in-situ thermal stress measurement of aluminum film deposited on silicon wafer

K Kusaka, T Hanabusa, M Nishida, F Inoko

THIN SOLID FILMS 290 248-253 1996年12月
Effect of nitrogen gas pressure on residual stress in AlN films deposited by the planar magnetron sputtering system

K Kusaka, T Hanabusa, K Tominaga

THIN SOLID FILMS 281(1/2) 340-343 1996年8月
マグネトロンスパッタリング法で作製された窒化アルミニウム膜中の残留応力のプラズマ防止網の効果

薄膜 290-291 260-263 1996年
プレーナマグネトロンスパッタリングで堆積されたAlN薄膜の残留応力の窒素ガス圧依存性

薄膜 (281-282) 340-343 1996年
シリコンウエハー上に堆積したアルミニウム薄膜の残留応力と熱応力のその場測定

薄膜 (290-291) 248-253 1996年
対向ターゲットシステムで作製されたAlN膜の悪下

33(9B) 5235 1994年
プレーナマグネトロンスパッタリング生成によるAlN膜の結晶配向性と残留応力のプラズマ汚染の影響

材料 43(490) 799 1994年
Film Degradation in AlN Prepatation by Facing Targets System

Japan J. Appl. Phys. 33(9B) 5235-5239 1994年

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所属学協会

6

共同研究・競争的資金等の研究課題

4

レーザーピーニング法で処理された材料の評価

共同研究 2002年
Evaluation of Lasar - Peened Materials

Cooperative Research 2002年
PVD薄膜のX線的残留応力測定

1994年
X-ray Residual Stress Measurement of PVD Film