遠藤 哲郎
エンドウ テツオ (Tetsuo Endoh)
更新日: 04/05
基本情報
- 所属
- 東北大学 大学院工学研究科・工学部 電気エネルギーシステム専攻 エネルギーデバイス工学講座 グリーンパワーエレクトロニクス分野 教授 (リサーチプロフェッサー)
- (兼任)国際集積エレクトロニクス研究開発センター センター長 CSISー 副センター長
- 学位
-
博士(工学)(1995年5月 東北大学)
- J-GLOBAL ID
- 200901005465826673
- researchmap会員ID
- 1000183855
- 外部リンク
研究キーワード
1研究分野
4経歴
12-
2012年10月 - 現在
-
2012年10月 - 現在
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2012年10月 - 現在
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2012年4月 - 現在
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2010年3月 - 現在
-
2008年5月
-
2008年4月
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2007年4月 - 2008年3月
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1997年6月 - 2007年3月
-
1995年4月 - 1997年5月
-
1988年4月 - 1995年3月
-
1987年4月 - 1988年3月
学歴
1-
- 1987年3月
委員歴
92-
2021年12月 - 現在
-
2019年4月 - 現在
-
2019年4月 - 現在
-
2019年4月 - 現在
-
2010年6月 - 現在
-
2010年6月 - 現在
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2010年4月 - 現在
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2010年4月 - 現在
-
2010年4月 - 現在
-
2010年3月 - 現在
-
2010年1月 - 現在
-
2009年4月 - 現在
-
2009年4月 - 現在
-
2009年4月 - 現在
-
2009年4月 - 現在
-
2007年3月 - 現在
受賞
7-
2009年9月
-
2001年5月
論文
845-
2023 IEEE International Magnetic Conference - Short Papers (INTERMAG Short Papers) 2023年5月 最終著者
-
IEEE Transactions on Magnetics 59(4) 1-6 2023年2月23日
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Neural Computing and Applications 2023年2月13日 査読有り
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IEEE Transactions on Magnetics 1-1 2023年
-
IEEE Transactions on Magnetics 1-1 2023年 最終著者
-
IEEE Transactions on Very Large Scale Integration (VLSI) Systems 1-5 2023年
-
Applied Physics Express 16(1) 013002-1-013002-6 2023年1月1日 査読有り
-
AIP Advances 12 125317-1-125317-10 2022年12月21日 査読有り
-
Journal of Applied Physics 132(21) 213904-213904 2022年12月7日 査読有り
-
IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) 2022年12月3日
-
IEEE Transactions on Industrial Informatics 1-13 2022年11月18日 査読有り
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The 6th Symposium for the Core Research Clusters for Materials Science and Spintronics, and the 5th Symposium on International Joint Graduate Program in Materials Science 2022年10月24日
-
2022 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2022) 2022年9月29日
-
IEEE Transactions on Industrial Informatics 18(5) 3055-3065 2022年5月 査読有り
-
2022 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS) 2022年3月27日
-
AIP Advances 12(3) 035133-1-035133-5 2022年3月1日 査読有り
MISC
34-
科学技術振興機構(JST)「サイエンスポータル」コラムインタビュー記事 2017年12月22日
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日刊工業新聞1面 2017年11月29日
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日経エレクトロニクス 2016年12月号 (1174) 97-101 2017年11月18日
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(8) 2017年8月
-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(8) 2017年8月
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日刊工業新聞27面 2017年5月25日
-
科学技術振興機構(JST)「サイエンスポータル」コラムインタビュー記事 2017年1月23日
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科学技術振興機構(JST)「サイエンスポータル」コラムインタビュー記事 2017年1月13日
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IEEE JOURNAL ON EMERGING AND SELECTED TOPICS IN CIRCUITS AND SYSTEMS 6(2) 109-119 2016年6月
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日経産業新聞8面 2016年4月25日
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東北大学リサーチハイライト 2015年6月29日
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CHEMICAL & ENGINEERING NEWS 93(17) 20-20 2015年4月
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マイナビ・スペシャルインタビュー記事 20 2015年2月4日
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Tohoku University Research News of Engineering 2014年10月25日
-
Tohoku University Research News of Engineering 2014年10月25日
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電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 114(175) 39-44 2014年8月4日
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JSTニュース (2014年8月号) 2014年8月4日
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IEICE Transactions on Electronics E96-C(5) 619-619 2013年5月1日
-
電子情報通信学会誌 95(平成24年11月号) 986-991 2012年11月1日
書籍等出版物
3-
㈱テクノシステム 2008年10月
-
2008年5月
-
1993年8月
講演・口頭発表等
209-
JEDAT Solution Seminar 2023~ Catch the waves! 2023年9月1日 招待有り
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JEDAT Solution Seminar 2023~ Catch the waves! 2023年8月30日 招待有り
-
東北大学フォーラム2023 in 東京 2023年7月15日 招待有り
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次世代半導体産業セミナー 2023年7月14日 招待有り
-
IEEE Sendai Section 新 Fellow 記念講演会 2023年4月17日 招待有り
-
電子情報通信学会 集積回路研究会(ICD) 2023年4月11日 招待有り
-
日独ジョイントワークショップ ”次世代半導体と関連技術” 2023年2月8日 招待有り
-
令和4年度 I-SEP「半導体業界動向セミナー」 2023年2月7日 招待有り
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国際シンポジウム「DX×半導体×モノづくりが切り拓く私たちの未来」 2023年2月2日 招待有り
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東北大・宇宙航空研究連携拠点 第4回シンポジウム 2022年12月10日 招待有り
-
きたかみ企業ネットワーク2022 in 名古屋 2022年10月27日 招待有り
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理研シンポジウム 2022年10月4日 招待有り
-
ナノ理工学情報交流会 2022年8月30日 招待有り
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大阪大学ナノ理工学人材育成産学コンソーシアム 令和4年度 第2回ナノ理工学情報交流会 2022年8月30日 招待有り
-
The 11th IEEE Non-Volatile Memory Systems and Applications Symposium (IEEE NVMSA 2022) 2022年8月25日 招待有り
-
JATES第80回キーパーソン研究会 2022年6月30日 招待有り
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東北大学先端技術×ライフサイエンスシリーズvol.4 社会インフラとしてのITと半導体技術~安全から医療連携・健康まで~ 2022年6月24日 招待有り
-
GSEMMM2022 (2nd Global Summit and Expo on Magnetism and Magnetic Materials) 2022年6月13日 招待有り
-
MAGNETISMMEET2022 2022年4月18日 招待有り
-
第69回応用物理学会 春季学術講演会 シンポジウム「スピントロニクスによるグリーンイノベーション」 2022年3月25日 招待有り
担当経験のある科目(授業)
129-
2023年10月 - 2024年3月
-
2023年10月 - 2024年3月
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2023年4月 - 2023年9月
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2022年10月 - 2023年3月
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2022年10月 - 2023年3月
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2022年10月 - 2023年3月
-
2022年4月 - 2022年9月
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2021年10月 - 2022年3月
-
2021年10月 - 2022年3月
-
2021年10月 - 2022年3月
-
2020年10月 - 2021年3月
-
2020年10月 - 2021年3月
共同研究・競争的資金等の研究課題
145-
文部科学省 2022年6月 - 2031年3月
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JSPS 研究拠点形成事業(A.先端拠点形成型) 2023年4月 - 2027年3月
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JST 戦略的イノベーション創造プログラム (SIP) 第3期 2023年4月 - 2027年3月
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共同研究 2014年3月 - 2026年3月
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文部科学省 革新的パワーエレクトロニクス創出基盤技術研究開発事業 2021年7月 - 2025年3月
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共同研究 2020年4月 - 2025年3月
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共同研究 2021年9月 - 2024年8月
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共同研究 2023年4月 - 2024年3月
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共同研究 2022年10月 - 2024年3月
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共同研究 2022年4月 - 2024年3月
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共同研究 2021年8月 - 2024年3月
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(独)新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO) 省エネAI半導体及びシステムに関する技術開発事業 2021年7月 - 2024年3月
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共同研究 2021年4月 - 2024年3月
-
共同研究 2020年4月 - 2024年3月
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共同研究 2019年8月 - 2024年3月
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共同研究 2019年7月 - 2024年3月
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共同研究 共同研究 2018年11月 - 2024年3月
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共同研究 2018年10月 - 2024年3月
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共同研究 2018年6月 - 2024年3月
産業財産権
99メディア報道
463-
NTS 2023年5月23日
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新電力ネット 2023年5月23日 インターネットメディア
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PRTIMES 2023年5月22日
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東北大学ニュース 2023年5月22日
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日本経済新聞 2023年5月21日
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駐日米国大使館プレスリリース 2023年5月21日
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マイクロンプレスリリース 2023年5月21日
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ヨドバシ 2023年5月16日
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楽天ブックス 2023年5月16日 インターネットメディア
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イプロスものづくり 2023年5月16日
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SHOSEN ONLINE 2023年5月16日 インターネットメディア
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honto 2023年5月16日 インターネットメディア
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amazon 2023年5月16日 インターネットメディア
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日本経済新聞電子版 2023年4月25日
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Patent Result 2023年4月24日
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朝日新聞デジタル 2023年4月15日
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TFC×TEL協働プログラム 2023年4月12日
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LINK-J 2023年4月10日
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日経クロステック 2023年4月10日
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東北大学工学部ホームページ 2023年3月25日 その他
その他
22-
2016年10月 - 2016年10月IT分野の基盤技術とAIとパワーデバイスなどの技術を融合させて輸送システム領域へと展開を図る産学共同研究プログラム。
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2016年10月 - 2016年10月東北大学をハブ機関として、日本からは東京大学と筑波大学、英国からはケンブリッジ大学、フランスからはパリ南大学が参画し、二次元電子ガス中のスピン現象などの研究を推進し、将来の二次元電子やスピントロニクスの新規材料の探査研究を行う。
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2015年10月 - 2015年10月全ての階層で、不揮発性をベースとする最先端のスピントロニクス物理を駆使して、IT機器の電力使用量を劇的に減らし、充電ストレスのないエコ社会を実現する。
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2014年4月 - 2014年4月CRESTで開発縦型トランジスターが持つ特徴を最大限生かし、ワーキングメモリーを中心にさまざまな集積回路への応用に向けた研究開発を行います。
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2010年3月 - 2010年3月スピントロニクス技術とCMOS技術の融合により、超低消費電力の論理集積回路を開発すると共に、本技術分野の拠点形成を目指す。
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2008年10月 - 2008年10月研究代表者が提案してきた縦型ボディーチャネルMOSFETのデバイス・回路技術を研究開発すると共に、その集積プロセスの研究開発を行う。
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2008年4月 - 2008年4月縦型構造の電荷蓄積膜方式セルを積層した超高密度不揮発性半導体メモリの製造技術を開発する。
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2007年8月 - 2007年8月近年、情報通信データ量は飛躍的に増大しており、更なる超高速・大容量化が望まれる不揮発性半導体メモリに関する研究開発である。 現在使用されているNAND型フラッシュメモリーでは、更なる大容量データ書き込み時の速度対応が困難である。申請者らが開発した「多段縦型構造トランジスタ技術」と「B4ーHE(Back Bias assisted Band to Band tunneling induced Hot Electron)フラッシュメモリ技術」を融合し、低電力・高速書込み性能を有する三次元大容量半導体不揮発性メモリ技術を開発する。
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2007年8月 - 2007年8月本研究では、提案してきたCurrent Control-MOS Current Mode Logic(CC-MCML)回路という独自技術を用いて、MOSFETのデバイス特性揺らぎが顕在化してくるナノスケール世代(30nmテクノロジーノード以下)においても、ロジック回路を20GHz動作速度にて安定に動作させることができる革新的でRobustなロジック回路技術を、回路シミュレータにて開発する。このCC-MCML回路は、従来のCMOS回路・MCML回路と比較して、動作温度変動やデバイス特性揺らぎに起因する信号バラツキを1/10以下にまで抑制できる。
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2007年8月 - 2007年8月世界をリードするナノスピン材料創成・磁性体極微細加工技術の研究開発を基軸に,スピンデバイスを活用する革新的な高速・不揮発性メモリインロジックとテラビット級次世代垂直記録技術による超高速大容量ストレージシステムを開発し,次世代の高機能・超低消費電力コンピューティングデバイス・システムの基盤技術を確立する。
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2007年4月 - 2007年4月将来のナノスケール時代の半導体集積回路を実現するためには、現在の平面MOSFETに対して飛躍的に集積度が高められ且つその電気的特性が向上できる新しいスイッチング素子が待望されている。この認識に立ち、本共同研究では、ナノスケール世代の次世代高性能トランジスタとして、遠藤が1997年に提案した縦型トランジスタを本共同研究では取り上げ、そのデバイス、製造プロセスに関する物理的諸現象に対する原理的科学的解明を行っている。縦型トランジスタのデバイス特性の高性能化を実現する諸現象の解明を東北大学が、製造プロセスの高性能化を実現する諸現象の解明をスタンフォード大学が担当している。
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2006年4月 - 2006年4月現在の有機トランジスタは、その動作電圧が数十Vに達し、駆動力も移動度が1cm2/Vs程度と小さいために、既存エレクトロニクス技術との集積化において整合性に乏しく、大きな課題である。 本試験では、提案し開発してきた有機トランジスタのデバイス設計理論に基づき、新デバイス構造であるオーミック接合・基板接地型有機トランジスタの提案を行った。本提案技術により、5V~10Vまでの低電圧動作化と、従来の10倍の高駆動力化が期待される。また、この試験結果では、有機トランジスタのデバイス設計理論の確立も目指し、高性能有機トランジスタに向けた材料設計指針に資する。
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2006年4月 - 2006年4月本研究では、遠藤が提案したDynamic Feedback-MOS Current Mode Logic(DF-MCML)回路という独自技術を用いて、現在5GHz程度にとどまっているロジック回路の動作速度を20GHzにまで向上させる革新的な低消費電力ロジック回路技術を回路シミュレータにて開発した。このDF-MCML回路は、従来のCMOS回路と比較して、動作温度変動やデバイス特性ばらつきに起因する信号バラツキ耐性に非常に優れているため、20GHz帯域高速動作ロジックICをシリコンMOS(Si-MOS)集積回路にて安価且つ安定に供給できるようにするための基盤技術を構築した。
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2005年4月 - 2005年4月現在の有機トランジスタは、その動作電圧が数十Vに達し、駆動力も移動度が1cm2/Vs程度と小さいために、既存エレクトロニクス技術との集積化において整合性に乏しく、大きな課題である。 本試験では、有機トランジスタを低電圧で動作させるためのデバイス設計理論とその駆動力を向上させるためのデバイス設計理論を提案した。本提案技術により、数十Vの動作電圧を5V~10Vにまでの低電圧化させることに成功した。また、その駆動力の向上にも成功した。
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2005年4月 - 2005年4月本研究では、代表研究者が発案したDynamic Feedback-MCML(DF-MCML)回路技術を用いて30GHz動作集積回路用のシリコン超高速MOS回路技術を回路シミュレーターによって開発する。さらに、このDF-MCML回路は、従来のCMOS回路やMCML回路と比較して、飛躍的に動作温度変動やデバイス特性ばらつきに対する耐性に優れ、且つ微小信号に対する感度性に優れていることを示す。
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2005年4月 - 2005年4月hp32以降に要求される駆動力の向上・ゲート制御性の向上・特性ばらつきの抑制等に対し大きな効果が期待できる縦型MOSFET技術にて、その要求を実現するために新規に必要とされる材料・プロセス(プロセスインテグレーション、装置コンセプトを含む)・評価分析・デバイス・回路・TCADの各技術を、従来のバルクMOSFET技術との整合性・融合性に留意しながら構築する。この技術は、FINFETやTri-Gate等の立体チャネルMOSFETにも広く展開できる。
社会貢献活動
288