安田 雅昭

J-GLOBALへ         更新日: 19/11/21 16:48
 
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研究者氏名
安田 雅昭
 
ヤスダ マサアキ
所属
大阪府立大学
部署
大学院工学研究科 電子・数物系専攻 電子物理工学分野
職名
准教授
学位
博士(工学)(大阪府立大学)

研究分野

 
 

学歴

 
 
 - 
1994年
大阪府立大学大学院 工学研究科 電子工学専攻
 
 
 - 
1989年
大阪府立大学 工学部 電子工学科
 

委員歴

 
2018年4月
 - 
現在
日本学術振興会  荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会 委員
 
2013年4月
 - 
現在
日本顕微鏡学会  SEMの物理学分科会 幹事
 
2007年9月
 - 
現在
センシング技術応用研究会  幹事
 
2010年2月
 - 
2014年1月
応用物理学会  代議員
 
2006年6月
 - 
2008年5月
電気学会  高分子材料と放射線の相互作用評価技術調査専門委員会 委員
 

論文

 
Computational Study of Pattern Formation for Chemically Amplified Resists in Extreme Ultraviolet Lithography
M. Yasuda, M. Koyama, K. Fukunari, M. Shirai, H. Kawata and Y. Hirai
J. Photopolym. Sci. Technol.   32 339-343   2019年   [査読有り]
Fabrication of Self-Standing Polystyrene Thin Films with Fine Through Holes by Use of Water Soluble Resin Sacrificial Layer
H. Kawata, K. Uchida, M. Yasuda, and Y. Hirai
J. Photopolym. Sci. Technol.   32 137-141   2019年   [査読有り]
Stochastic Simulation of Pattern Formation for Chemically Amplified Resist in Electron Beam Lithography
M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda
Jpn. J. Appl. Phys.   58 SDDB01   2019年   [査読有り]
Stochastic simulation of pattern formation in electron beam lithography
M. Yasuda, M. Koyama, M. Shirai, H. Kawata, and Y. Hirai
J. Vac. Sci. Technol. B   36 06JA04   2018年   [査読有り]
Transfer Printing by Use of Delayed UV Cure Resin for Fabricating Multilayer Structures
T. Yamamoto, M. Yasuda, Y. Hirai, and H. Kawata
J. Photopolym. Sci. Technol.   31 657-662   2018年   [査読有り]

Misc

 
トップダウンナノ加工のシミュレーションとナノ空間創生
安田雅昭、多田和広、平井義彦
機能材料   34(3) 41-49   2014年   [依頼有り]
衛星材料内部の電子軌道解析と蓄積電荷分布解析
安田雅昭、渡邉力夫
プラズマ・核融合学会誌   88 96-100   2012年   [依頼有り]
電子線照射下のナノカーボン材料のダイナミクス解析
安田雅昭
顕微鏡   43(3) 222-224   2008年   [依頼有り]

書籍等出版物

 
Computational Chemistry: Theories, Methods and Applications
M. Yasuda and K. Tada (担当:分担執筆, 範囲:Chapter 4: Molecular Simulation of Electron Beam Nanofabrication)
Nova Science Publishers   2014年   
Advances in Nanotechnology. Volume 11
M. Yasuda, K. Araki and Y. Hirai (担当:分担執筆, 範囲:Chapter 5: Molecular Flow during Polymer Filling Process in Nanoimprint Lithography)
Nova Science Publishers   2014年   
表面分析技術選書 計算シミュレーションと分析データ解析 第4・2節 電子散乱のシミュレーション
丸善株式会社   2008年   
Lithography, Capt.26 : Molecular Dynamics Study on Mold and Pattern Breakages in Nanoimprint Lithography
IN-TECH   2010年   

講演・口頭発表等

 
Computational Study of Pattern Formation for Chemically Amplified Resists in Extreme Ultraviolet Lithography [招待有り]
M. Yasuda, M. Koyama, K. Fukunari, M. Shirai, H. Kawata and Y. Hirai
36th International Conference of Photopolymer Science and Technology   2019年6月   
Computational Study of Pattern Formation in UV Nanoimprint Lithography [招待有り]
M. Yasuda, M. Koyama, R. Sakata, M. Shirai, H. Kawata and Y. Hirai
35th Int. Conf. of Photopolym. Sci. and Technol.   2018年6月   
Computational Study of Temperature Distribution in Electron-Irradiated Graphene [招待有り]
Y. Ueno, H. Kawata, Y. Hirai and M. Yasuda
11th Int. Symp. on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’17   2017年12月   
Multiscale Simulation of Development Process in Electron Beam Lithography [招待有り]
M. Yasuda, S. Hitomi, H. Kawata and Y. Hirai
34th Int. Conf. of Photopolym. Sci. and Technol.   2017年6月   
Multiphysics Simulation of Nanopatterning in Electron Beam Lithography [招待有り]
M. Yasuda, K. Tada and M. Kotera
33rd Int. Conf. of Photopolym. Sci. and Technol.   2016年6月   

競争的資金等の研究課題

 
スケール境界領域におけるパターン形成技術に関する理論的研究
日本学術振興会: 科学研究費補助金 挑戦的萌芽研究
研究期間: 2015年4月 - 2018年3月    代表者: 安田雅昭
電子線ナノプロセスのマルチフィジックスシミュレーション
日本学術振興会: 科学研究費補助金 基盤研究(A)
研究期間: 2013年5月 - 2016年3月    代表者: 安田雅昭
モンテカルロ法・分子動力学法融合型次世代電子線リソグラフィシミュレーションの開発
日本学術振興会: 科学研究費補助金 挑戦的萌芽研究
研究期間: 2011年4月 - 2014年3月    代表者: 安田雅昭
ナノカーボン材料を対象とした電子ビーム構造制御の理論解析
日本学術振興会: 科学研究費補助金 基盤研究(B)
研究期間: 2010年4月 - 2013年3月    代表者: 安田雅昭
電子ビーム励起プロセシングを対象とした分子シミュレーションの開発
日本学術振興会: 科学研究費補助金 萌芽研究
研究期間: 2008年4月 - 2010年3月    代表者: 安田雅昭