MISC

2020年

反応性力場分子動力学法計算および量子化学計算を活用したCVD/ALD薄膜堆積機構の解析

電子情報通信学会技術研究報告(Web)
  • 徳増崇
    • ,
  • 上根直也
    • ,
  • 上根直也
    • ,
  • 馬渕拓哉
    • ,
  • 馬渕拓哉
    • ,
  • 財津優
    • ,
  • 安原重雄
巻
120
号
239(SDM2020 22-34)
リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=202102251132160701
ID情報
  • ISSN : 2432-6380
  • J-Global ID : 202102251132160701
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