2020年2月7日
Electrical fluctuation spectra due to characteristic thermal diffusion in Ta thin films deposited by RF-magnetron sputtering
Japanese Journal of Applied Physics
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- 巻
- 59
- 号
- 開始ページ
- 025509
- 終了ページ
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究論文(学術雑誌)