講演・口頭発表等

国際会議
2018年10月21日

Effects of Process Gases and Gate TiN Electrode during the Post Deposition Anneal to ALD-Al2O3 Dielectric Film

VS 65th International Symposium
  • M. Saito
    • ,
  • A. Teramoto
    • ,
  • T. Suwa
    • ,
  • K. Nagumo
    • ,
  • Y. Shiba
    • ,
  • R. Kuroda
    • ,
  • S. Sugawa
記述言語
英語
会議種別
口頭発表（一般）
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