一次壁形成中の新生木部細胞を用いて, 一次壁のセルロースミクロフィブリルの構造をシャドウイング法, 負染色法, 回折コントラスト法ならびに電子線回折法によりTEM観察した。形成段階にある一次壁は, アモルファス状の非セルロース性物質を多く含んでいた。この物質を除去するため2 - 3の化学処理を試みたところ, 3％HCl (80℃, 1h) 処理により最も効果的にセルロースミクロフィブリルを露出させることができた。観察されたミクロフィブリルはかなり通直で, その幅は4 - 5nmであった。また一次壁の電子線回折像は, 二次壁で得られるような典型的なセルロース I のパターンではなく, 非常に散漫な回折像であった。以上より, 一次壁のセルロースミクロフィブリルは二次壁のそれより幾分大きな4 - 5nmの幅をもつこと, さらに結晶性が悪いこと, が推定された。