2020年7月
Highly efficient chemical mechanical polishing method for SiC substrates using enhanced slurry containing bubbles of ozone gas
Precision Engineering
- ,
- 巻
- 64
- 号
- 開始ページ
- 91
- 終了ページ
- 97
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- DOI
- 10.1016/j.precisioneng.2020.03.015
- 出版者・発行元
- Elsevier BV
- ID情報
-
- DOI : 10.1016/j.precisioneng.2020.03.015
- ISSN : 0141-6359