2019年10月
High thermoelectric performance in high crystallinity epitaxial Si films containing silicide nanodots with low thermal conductivity
Applied Physics Letters
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- 巻
- 115
- 号
- 18
- 開始ページ
- 182104
- 終了ページ
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- 研究論文(学術雑誌)
- DOI
- 10.1063/1.5126910
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.1063/1.5126910
- ISSN : 0003-6951
- SCOPUS ID : 85074542944