現在，中性子応用計測における測定時間短縮のため，集束デバイスを用いたビームの高強度化が求められている．我々はマイクロ波プラズマジェットを用いた数値制御PCVMにより，合成石英製の中性子集束用Wolterミラーマンドレルを作製することを目指している．本報では，基盤の曲率や傾斜がプラズマジェット加工特性に及ぼす影響を評価した．また，光線追跡シミュレーターを作成し，Wolterミラーの形状誤差が集束性能に及ぼす影響を評価した．