2010年 - 2012年
単一イオン照射による刺激応答性高分子1次元ナノ構造体の形成と制御
日本学術振興会 科学研究費助成事業 若手研究(B) 若手研究(B)
本研究は、単一イオン照射法による高分子1次元ナノ構造化技術を基盤として、外部場刺激応答性の高分子のナノ構造化及び精密なサイズ制御による膨潤特性制御を第一目的とする。そして多層膜を利用した多ブロック連結ナノ構造化技術を利用し、外部場応答性高分子ブロックを取り入れた感応性ナノブロックシステムの創生への展開を目指す研究である。外部場により応答する可動部をもつナノシステムは、機能分子アクチュエーター、刺激応答型DDSなどの展開を期待しており、多分野への応用が期待できる。
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- 課題番号 : 22750194
- 体系的課題番号 : JP22750194