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藤川 茂紀
Shigenori Fujikawa
更新日: 02/02
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産業財産権
産業財産権
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20件
20件
50件
100件
特許第6090777号 ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法
藤川 茂紀, 早川 晴美, 先崎 尊博, 宮城 賢
特許第6020991号 微細パターン形成方法、現像液
藤川 茂紀, 早川 晴美, 先崎 尊博, 宮城 賢
特許第5979660号 コンタクトホールパターンの形成方法
先崎 尊博, 宮城 賢, 藤川 茂紀
特許第5936190号 無機固体イオン伝導体とその製造方法および電気化学デバイス
藤川 茂紀, 国武 豊喜
特許第5885143号 ガイドパターン形成用ネガ型現像用レジスト組成物、ガイドパターン形成方法、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
先崎 尊博, 太宰 尚宏, 宮城 賢, 藤川 茂紀, 小泉 真里, 早川 晴美
特開2016-010761 メンブレンフィルター
野口 拓也, 緒方 寿幸, 國武 豊喜, 藤川 茂紀
特開2016-010763 メンブレンフィルター
野口 拓也, 緒方 寿幸, 國武 豊喜, 藤川 茂紀
特許第5846568号 相分離構造を有する層を表面に備える基板の製造方法
先崎 尊博, 宮城 賢, 藤川 茂紀, 早川 晴美
特開2015-100778 ガス分離膜及びその製造方法、並びにこれを使用したガス分離モジュール及びガス分離方法
布重 純, 吉田 博史, 藤川 茂紀, 執行 英子
特許第5729537号 下地剤
先崎 尊博, 太宰 尚宏, 宮城 賢, 藤川 茂紀, 早川 晴美, 小泉 真里
特許第5721164号 ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
先崎 尊博, 太宰 尚宏, 宮城 賢, 藤川 茂紀, 早川 晴美, 小泉 真里
特開2015-033850 複合層材料
緒方 寿幸, 野口 拓也, 藤村 悟史, 藤川 茂紀
特許第5584872号 高分子ナノ構造体を表面に備える基板及びその製造方法
藤川 茂紀, 小泉 真里, 先崎 尊博, 太宰 尚宏, 宮城 賢
特開2014-011245 微細パターン形成方法、現像液
藤川 茂紀, 早川 晴美, 先崎 尊博, 宮城 賢
特開2013-168352 無機固体イオン伝導体とその製造方法および電気化学デバイス
藤川 茂紀, 国武 豊喜
特開2013-164436 コンタクトホールパターンの形成方法
先崎 尊博, 宮城 賢, 藤川 茂紀
特開2013-012481 無機固体イオン伝導体とその製造方法および電気化学デバイス
藤川 茂紀, 国武 豊喜
WO2012-169620 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
先崎 尊博, 宮城 賢, 藤川 茂紀, 小泉 真里, 早川 晴美
特開2012-219236 相分離構造を有する層を表面に備える基板の製造方法
先崎 尊博, 宮城 賢, 藤川 茂紀, 早川 晴美
WO2012-111694 ナノ構造体を表面に備える基板の製造方法
藤川 茂紀, 早川 晴美, 先崎 尊博, 宮城 賢
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