特許権
コンタクトホールパターンの形成方法
東京応化工業株式会社, 国立研究開発法人理化学研究所
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- 出願番号
- 特願2012-026000
- 出願日
- 2012年2月9日
- 公開番号
- 特開2013-164436
- 公開日
- 2013年8月22日
- 特許番号/登録番号
- 特許第5979660号
- 登録日
- 発行日
- 2016年8月5日
- リンク情報
- ID情報
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- J-Global ID : 201603013119465163