論文

査読有り 筆頭著者
2001年8月

"PH3とSiH4の交互供給による450℃での高濃度PドープSiのエピタキシャル成長"

巻
11
号
PR3
開始ページ
255
終了ページ
260
記述言語
英語
掲載種別
研究論文（学術雑誌）
リンク情報
Web of Science
https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=JSTA_CEL&SrcApp=J_Gate_JST&DestLinkType=FullRecord&KeyUT=WOS:000171140300033&DestApp=WOS_CPL
ID情報
  • ISSN : 1155-4339
  • Web of Science ID : WOS:000171140300033
エクスポート
BibTeX RIS
論文リストへ