論文

査読有り 筆頭著者
2000年11月19日

Very Low-Resistive Si Epitaxial Growth at 450oC by Alternately Supplied PH3 and SiH4

Workshop on Selective and Functional Film Deposition Technol. as Applied to ULSI Technol. (29th IUVSTA Workshop) & 2nd Int. Workshop on Development of Thin Films for Future ULSI's and Nano-Scale Process Integration, Ise-Shima, Mie, Japan, Nov. 19-24, 2000
  • Y. Shimamune
  • ,
  • M. Sakuraba
  • ,
  • T. Matsuura
  • ,
  • J. Murota

開始ページ
266
終了ページ
269
記述言語
英語
掲載種別
研究論文(国際会議プロシーディングス)

エクスポート
BibTeX RIS