島添和樹 (Kazuki Shimazoe) - マイポータル

基本情報

所属: 京都工芸繊維大学大学院電気電子工学系京都工芸繊維大学特別研究員

学位: 博士(工学)(2024年3月京都工芸繊維大学)

連絡先: n24a0001kit.ac.jp
ORCID ID: https://orcid.org/0000-0001-7710-0411
J-GLOBAL ID: 202201003127244588
researchmap会員ID: R000032443

外部リンク: https://kazukishimazoe.sakura.ne.jp/wp/

研究キーワード

研究分野

経歴

2024年4月 - 現在

京都工芸繊維大学, 大学院電気電子工学系, 京都工芸繊維大学特別研究員
2024年4月 - 現在

独立行政法人日本学術振興会, 特別研究員(PD)
2023年4月 - 2024年3月

日本学術振興会, 特別研究員(DC2)
2021年4月 - 2023年3月

京都工芸繊維大学 (京都産学共創「超階層」マテリアル人材育成フェローシッププログラム)

学歴

2021年4月 - 2024年3月

京都工芸繊維大学, 大学院工芸科学研究科, 博士後期課程電子システム工学専攻
2022年9月 - 2022年12月

University of Valencia, Department of Applied Physics and Electromagnetism, The Crystal Growth and Characterization of Semiconductors (CreCYCSem) research group
2019年4月 - 2021年3月

京都工芸繊維大学大学院, 工芸科学研究科, 博士前期課程電子システム工学専攻
2015年4月 - 2019年3月

京都工芸繊維大学, 工芸科学部, 設計工学域電子システム工学課程

受賞

2024年3月

令和5年度学長表彰(研究業績優秀者), 京都工芸繊維大学

島添和樹
2023年12月

学生ポスター賞, コランダム構造酸化物ヘテロ構造のミストCVD成長とデバイス応用, 日本結晶成長学会

島添和樹
2023年10月

EMS賞, Realizing Vertical Corundum-Structured Oxide Devices with Rhombohedral Indium Tin Oxide Bottom Electrode, 電子材料シンポジウム委員会

島添和樹
2021年11月

IMFEDK Poster Paper Award, Growth of corundum structured oxides and their alloy for lattice matched applications, IEEE Electron Devices Society Kansai Chapter

Kazuki Shimazoe
2021年3月

第17回 JSAPフォト＆イラストコンテスト優秀賞, おばあちゃん家のガラス, 応用物理学会

島添和樹

論文

Heteroepitaxial growth of a-, m-, and r-plane α-Ga2O3 thin films on rh-ITO electrodes for vertical device applications

Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka, Masahiro Yoshimoto

Journal of Crystal Growth 630 2024年3月15日
Visible-light absorption of indium oxide thin films via Bi3+ doping for visible-light-responsive photocatalysis

Yoko Taniguchi, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Toshiyuki Kawaharamura, Kazutaka Kanegae, Masahiro Yoshimoto

Materials Chemistry and Physics 2024年3月
Elastic and inelastic strain in submicron-thick ZnO epilayers grown on r-sapphire substrates by metal–organic vapour phase deposition

Maria Carmen Martinez-Tomas, Oleksii Klymov, Kazuki Shimazoe, Juan-Francisco Sánchez-Royo, Mahesh Eledath Changarath, Said Agouram, Vicente Muñoz-Sanjosé

Acta Crystallographica Section B Structural Science, Crystal Engineering and Materials 80(2) 2024年2月13日査読有り
Demonstration of vertical schottky barrier diodes based on α-Ga2O3 thin films enabled by corundum structured rh-ITO bottom electrodes

Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka, Masahiro Yoshimoto

MRS Advances 2024年2月9日
Epitaxial growth of δ‐Ga₂O₃ thin films grown on YSZ and sapphire substrates using β‐Fe₂O₃ buffer layers via mist CVD

T. Kato, H. Nishinaka, K. Shimazoe, M. Yoshimoto

physica status solidi (a) 2023年10月8日
Vertical self-powered ultraviolet photodetector using α-Ga2O3 thin films on corundum structured rh-ITO electrodes

Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka, Yoko Taniguchi, Takahiro Kato, Kazutaka Kanegae, Masahiro Yoshimoto

Materials Letters 341 134282-134282 2023年6月査読有り筆頭著者
Homoepitaxial growth of Ge doped β-gallium oxide thin films by mist chemical vapor deposition

Temma Ogawa, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Tatsuji Nagaoka, Hiroki Miyake, Kazutaka Kanegae, Masahiro Yoshimoto

Japanese Journal of Applied Physics 62(SF) SF1016-SF1016 2023年4月3日査読有り
Demonstration of Bixbyite-Structured δ-Ga₂O₃ Thin Films Using β-Fe₂O₃ Buffer Layers by Mist Chemical Vapor Deposition

Takahiro Kato, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Kazutaka Kanegae, Masahiro Yoshimoto

ACS Applied Electronic Materials 5(3) 1715-1720 2023年3月8日査読有り
Corundum-structured α-Fe2O3 substrates for α-Ga2O3 epitaxial growth

Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Kazutaka Kanegae, Masahiro Yoshimoto

Materials Letters 336 133784-133784 2022年12月査読有り
LiTaO3基板上への α-Ga2O3の成長に α-Fe2O3バッファ層の成長時間が与える影響

島添和樹, 西中浩之, 新田悠汰, 吉本昌広

材料 71(10) 830-834 2022年10月15日査読有り筆頭著者
Epitaxial growth of metastable c-plane rhombohedral indium tin oxide using mist chemical vapor deposition

Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka, Keisuke Watanabe, Masahiro Yoshimoto

Materials Science in Semiconductor Processing 147 106689-106689 2022年8月査読有り筆頭著者
Growth of metastable α-ga2o3 epitaxial thin film on flexible synthetic mica by insertion α-Fe2O3 buffer layer

Yuta Arata, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Masahiro Yoshimoto

Zairyo/Journal of the Society of Materials Science, Japan 70(10) 738-744 2021年査読有り
Phase control of α- and κ-Ga2O3 epitaxial growth on LiNbO3 and LiTaO3 substrates using α-Fe2O3 buffer layers

Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka, Yuta Arata, Daisuke Tahara, Masahiro Yoshimoto

AIP Advances 10(5) 055310-055310 2020年5月1日査読有り筆頭著者
Epitaxial Growth of Bendable Cubic NiO and In<inf>2</inf>O<inf>3</inf>Thin Films on Synthetic Mica for p-and n-type Wide-Bandgap Semiconductor Oxides

Yuta Arata, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Masahiro Yoshimoto

MRS Advances 5(31-32) 1671-1679 2020年査読有り
Microstructures of ϵ-Ga<inf>2</inf>O<inf>3</inf> thin film on (100) TiO<inf>2</inf> substrate by mist chemical vapor deposition

Daisuke Tahara, Hiroyuki Nishinaka, Yuta Arata, Kazuki Shimazoe, Masahiro Yoshimoto

IMFEDK 2019 - International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai 79-80 2019年11月査読有り

MISC

私の研究

島添和樹

京都工芸繊維大学大学案内2023 26 2022年
おばあちゃん家のガラス

島添和樹

応用物理 90(11) 655-655 2021年11月

講演・口頭発表等

可視光応答型光触媒応用に向けたBi 添加 In2O3薄膜およびナノロッドの作製とその光学特性評価

谷口陽子, 西中浩之, 島添和樹, 川原村敏幸, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広

令和5年度日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会第3回研究会 2024年1月20日
コランダム構造酸化物ヘテロ構造のミストCVD成長とデバイス応用

島添和樹, 西中浩之, 吉本昌広

第52回結晶成長国内会議（JCCG-52） 2023年12月6日
α-(Ga,Fe)2O3光電極のミストCVD成長とその評価

近藤良, 島添和樹, 西中浩之, 吉本昌広

第52回結晶成長国内会議（JCCG-52） 2023年12月6日
Vertical α-Ga2O3 Device Applications Enabled by Same Crystal Structured Indium Tin Oxide Electrode via Mist Chemical Vapor Deposition

Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka, Temma Ogawa, Masahiro Yoshimoto

2023 MRS Fall Meeting & Exhibit 2023年11月30日
ミスト CVD 法によるビックスバイト構造 δ-Ga2O3 薄膜を用いた紫外光検出器

加藤貴大, 西中浩之, 島添和樹, 吉本昌広

第20回薄膜材料デバイス研究会 2023年11月10日
Realizing Vertical Corundum-Structured Oxide Devices with Rhombohedral Indium Tin Oxide Bottom Electrode

第42回電子材料シンポジウム(EMS42) 2023年10月11日
Mist chemical vapor deposition of α-Ga2O3 and α-Fe2O3 thin films on corundum-structured rh-ITO electrode

Kazuki SHIMAZOE, Hiroyuki NISHINAKA, Takahiro KATO, Yoko TANIGUCHI, Masahiro YOSHIMOTO

International Conference on Crystal Growth Epitaxy 20(ICCGE-20) 2023年8月1日
Tailoring Five Polymorphs of Ga2O3 using Mist CVD

Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Masahiro Kaneko, Temma Ogawa, Takahiro Kato, Yoko Taniguchi, Masahiro Yoshimoto

Ultra-wide bandgap oxides 2023 2023年6月
Incorporation of Bismuth into In2O3 and Ga2O3 thin films to introduce intermediate levels

Yoko Taniguchi, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Toshiyuki Kawaharamura, Kazutaka Kanegae, Masahiro Yoshimoto

Ultra-wide bandgap oxides 2023 2023年6月
Epitaxial growth of δ-Ga2O3 thin films using β-Fe2O3 buffer layers grown on YSZ and sapphire substrates by mist CVD

Takahiro Kato, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Masahiro Yoshimoto

Compound Semiconductor Week 2023 (CSW 2023) 2023年5月29日
Visible-light absorption of In2O3 thin films and nanorods by incorporation of Bismuth for visible light-responsive photocatalyst

Yoko Taniguchi, Hiroyuki Nishinaka, Kazuki Shimazoe, Toshiyuki Kawaharamura, Kazutaka Kanegae, Masahiro Yoshimoto

E-MRS 2023 Spring Meeting 2023年5月28日
配向制御した酸化鉄光電極のミストCVD成長とその評価

島添和樹, 西中浩之, 谷口陽子, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広

日本化学会第103春季年会 2023年3月23日
α-Ga2O3/rh-ITO構造のヘテロエピタキシャル成長と深紫外フォトディテクタの試作

島添和樹, 西中浩之, 加藤貴大, 谷口陽子, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月15日
MOCVD Growth of ZnO Thin Films and Spray Pyrolysis Growth of Ga2O3 , In2O3 , and Their Alloys

Kazuki Shimazoe

Jornada Científica sobre obtención y caracterización de materiales para la plasmónica 2022年12月23日
Epitaxial growth of bixbyite structured delta-Ga2O3 thin films using the same structured beta-Fe2O3 buffer layers by Mist CVD

加藤貴大, 西中浩之, 島添和樹, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広

The 41th Electronic Materials Symposium, EMS 2022年10月
Visible-light responsive photocatalyst of Bismuth incorporation into In2O3 thin films by mist CVD

谷口陽子, 西中浩之, 島添和樹, 川原村敏幸, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広

The 41th Electronic Materials Symposium, EMS 2022年10月
ミストCVD法によるβ-Fe2O3バッファ層を用いたδ-Ga2O3のエピタキシャル成長

加藤貴大, 西中浩之, 島添和樹, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広

第82回秋季応用物理学会学術講演会 2022年9月21日
ミストCVD法を用いたc面サファイア基板上のrh-IMO薄膜のエピタキシャル成長とその評価

石野貴之, 島添和樹, 鐘ケ江一孝, 西中浩之, 吉本昌広

第82回秋季応用物理学会学術講演会 2022年9月21日
ミストCVD法によるGeドープβ-Ga2O3薄膜のホモエピタキシャル成長

小川典真, 西中浩之, 島添和樹, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広

第82回秋季応用物理学会学術講演会 2022年9月21日
Bi添加In2O3薄膜による可視光応答型光触媒反応の評価

谷口陽子, 島添和樹, 西中浩之, 川原村敏幸, 鐘ケ江一孝, 吉本昌広

第82回秋季応用物理学会学術講演会 2022年9月20日

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