青山舜 (Shun Aoyama) - マイポータル - researchmap

基本情報

所属: 国立研究開発法人産業技術総合研究所材料化学領域化学プロセス研究部門研究員

学位: 博士（工学）(2025年3月広島大学)

ORCID iD: https://orcid.org/0000-0001-9601-8288
J-GLOBAL ID: 202401016863338670
researchmap会員ID: R000067363

研究キーワード

6

研究分野

1

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 移動現象、単位操作 / 膜分離工学

経歴

2

2025年4月 - 現在

国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料化学領域化学プロセス研究部門, 研究員
2024年4月 - 2025年3月

広島大学, 先進理工系科学研究科化学工学プログラム, 日本学術振興会特別研究員（DC2）

論文

6

Ultrathin Highly Porous Molecular-Sieve Silica Membranes Developed by a Facile Process Using Atmospheric-Pressure Plasma Modification

Shun Aoyama, Hiroki Nagasawa, Norihiro Moriyama, Kenji Ito, Toshinori Tsuru, Masakoto Kanezashi

ACS Materials Letters 2025年9月1日
Surface oxidation via water plasma for increased H<inf>2</inf> permselectivity of Allylhydridopolycarbosilane (AHPCS)-derived SiC membranes

Gusni Sushanti, Shun Aoyama, Norihiro Moriyama, Hiroki Nagasawa, Masakoto Kanezashi, Toshinori Tsuru

Journal of Membrane Science 716 2025年2月
Improved RO performance in organic aqueous solutions of methyl-functionalized silica membranes modified by atmospheric-pressure plasma

Shun Aoyama, Hiroki Nagasawa, Norihiro Moriyama, Masakoto Kanezashi, Toshinori Tsuru

Journal of Membrane Science 705 2024年6月
Atmospheric-pressure plasma modification to control porous structure and affinity of organosilica membranes for pervaporation dehydration: Effect of plasma modification time

Shun Aoyama, Hiroki Nagasawa, Masakoto Kanezashi, Toshinori Tsuru

Separation and Purification Technology 320 2023年9月
Hydrophilic behavior of methyl-terminated organosilica thin films modified by atmospheric-pressure water vapor plasma

Shun Aoyama, Hiroki Nagasawa, Masakoto Kanezashi, Toshinori Tsuru

Materials Letters 325 2022年10月
Nanogradient Hydrophilic/Hydrophobic Organosilica Membranes Developed by Atmospheric-Pressure Plasma to Enhance Pervaporation Performance

Shun Aoyama, Hiroki Nagasawa, Masakoto Kanezashi, Toshinori Tsuru

ACS Nano 16(7) 10302-10313 2022年7月26日