野田周一 (Shuichi Noda) - マイポータル

基本情報

所属: 国立研究開発法人産業技術総合研究所招聘研究員

ORCID ID: https://orcid.org/0000-0001-9259-3007
J-GLOBAL ID: 202001020335398995
Researcher ID: J-6334-2020
researchmap会員ID: R000002127

論文

中性粒子ビーム加工による高移動度Ge FinFETの実現

大堀大介, 野田周一, 藤井卓也, 水林亘, 遠藤和彦, Li Yiming, Lee Yao-Jen, 尾崎卓哉, 寒川誠二

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2021.1 2361-2361 2021年2月26日
High Electron Mobility Germanium FinFET Fabricated by Atomic Layer Defect-Free and Roughness-Free Etching

Daisuke Ohori, Takuya Fujii, Shuichi Noda, Wataru Mizubayashi, Kazuhiko Endo, Yao-Jen Lee, Jenn-Hwan Tarng, Yiming Li, Seiji Samukawa

IEEE Open Journal of Nanotechnology 2 26-30 2021年
Atomic layer defect-free etching for germanium using HBr neutral beam

Journal of Vacuum Science & Technology A 2019年9月査読有り
Structural optimization and quantum size effect of Si-nanocrystals in SiC interlayer fabricated with bio-template

Materials Research Express 2019年3月27日査読有り
Atomic layer germanium etching for 3D Fin-FET using chlorine neutral beam

Journal of Vacuum Science & Technology A 2019年3月査読有り
High-performance GaN MOSHEMTs fabricated with ALD Al2O3 dielectric and NBE gate recess technology for high frequency power applications

Lin, Y.-K., Noda, S., Huang, C.-C., Lo, H.-C., Wu, C.-H., Luc, Q.H., Chang, P.-C., Hsu, H.-T., Samukawa, S., Chang, E.Y.

IEEE Electron Device Letters 38(6) 2017年査読有り
Spin relaxation in Si nanoclusters embedded in free-standing SiGe nanocolumns

Stepina, N.P., Zinovieva, A.F., Dvurechenskii, A.V., Noda, S., Molla, Md.Z., Samukawa, S.

Applied Physics Letters 110(20) 2017年査読有り
Corrections to AlGaN/GaN HEMTs with damage-free neutral beam etched gate recess for high-performance millimeter-wave applications

Lin, Y.-K., Noda, S., Lo, H.-C., Liu, S.-C., Wu, C.-H., Wong, Y.-Y., Luc, Q.H., Chang, P.-C., Hsu, H.-T., Samukawa, S. …

IEEE Electron Device Letters 38(1) 149-149 2017年査読有り
Impacts of plasma-induced damage due to UV light irradiation during etching on Ge fin fabrication and device performance of Ge fin field-effect transistors

Mizubayashi, W., Noda, S., Ishikawa, Y., Nishi, T., Kikuchi, A., Ota, H., Su, P.-H., Li, Y., Samukawa, S., Endo, K.

Applied Physics Express 10(2) 2017年査読有り
Defect-free Fabrication of Nano-disk and Nano-wire by Fusion of Bio-template and Neutral Beam Etching

S. Samukawa, Shuichi Noda, Akio Higo, Manabu Yasuda, Kazumi Wada

NANOPHOTONICS AND MICRO/NANO OPTICS III 10027 2016年査読有り
Enhancement-mode AlGaN/GaN MIS-HEMTs with Low Threshold Voltage Hysteresis Using Damage-free Neutral Beam Etched Gate Recess

Yen-Ku Lin, Shuichi Noda, Ruey-Bor Lee, Chia-Ching Huang, Quang Ho Luc, Seiji Samukawa, Edward Yi Chang

2016 IEEE 16TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOTECHNOLOGY (IEEE-NANO) 799-801 2016年査読有り
Defect-free Germanium Etching for 3D Fin MOSFET using Neutral Beam Etching

En-Tzu Lee, Shuichi Noda, Wataru Mizubayashi, Kazuhiko Endo, Seiji Samukawa

2016 IEEE 16TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOTECHNOLOGY (IEEE-NANO) 816-818 2016年査読有り
AlGaN/GaN HEMTs with Damage-Free Neutral Beam Etched Gate Recess for High-Performance Millimeter-Wave Applications

Lin, Y.-K., Noda, S., Lo, H.-C., Liu, S.-C., Wu, C.-H., Wong, Y.-Y., Luc, Q.H., Chang, P.-C., Hsu, H.-T., Samukawa, S. …

IEEE Electron Device Letters 37(11) 2016年査読有り
Highly Oriented Polycrystalline Cu2O Film Formation Using RF Magnetron Sputtering Deposition for Solar Cells

S. Noda, H. Shima, H. Akinaga

IRAGO CONFERENCE 2013 1585 9-20 2014年査読有り
Cu2O/ZnO Heterojunction Solar Cells Fabricated by Magnetron-Sputter Deposition Method Films Using Sintered Ceramics Targets

Journal of Physics: Conference Series 2013年4月12日査読有り
Cu2O/ZnO Heterojunction Solar Cells Fabricated by Magnetron-Sputter Deposition Method Films Using Sintered Ceramics Targets

S. Noda, H. Shima, H. Akinaga

IRAGO CONFERENCE 2012 433 2013年査読有り
Damage-Free Fabrication of FinFETs using a Neutral Beam Etching

Kazuhiko Endo, Shuichi Noda, Meishoku Masahara, Tomohiro Kubota, Takuya Ozaki, Seiji Samukawa, Yongxun Liu, Kenichi Ishii, Hidenori Takashima, Etsuro Sugimata …

6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symosium on Plasma Processing 2006年1月査読有り
New fabrication technology of fin field effect transistors using neutral-beam etching

Endo, K., Noda, S., Ozaki, T., Samukawa, S., Masahara, M., Liu, Y., Ishii, K., Takashima, H., Sugimata, E., Matsukawa, T. …

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers 45(6 B) 2006年査読有り
Fabrication of FinFETs by damage-free neutral-beam etching technology

Endo, K., Noda, S., Masahara, M., Kubota, T., Ozaki, T., Samukawa, S., Liu, Y., Ishii, K., Ishikawa, Y., Sugimata, E. …

IEEE Transactions on Electron Devices 53(8) 2006年査読有り
Fabrication of a vertical-channel double-gate metal-oxide-semiconductor field-effect transistor using a neutral beam etching

Endo, K., Noda, S., Masahara, M., Kubota, T., Ozaki, T., Samukawa, S., Liu, Y., Ishii, K., Ishikawa, Y., Sugimata, E. …

Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters 45(8-11) 2006年査読有り

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MISC

中性粒子ビームによるGe Fin構造の側壁エッチング特性の検討

大堀大介, 野田周一, 藤井卓也, 水林亘, 遠藤和彦, 遠藤和彦, LEE En-Tzu, YIMING Li, LEE Yao-Jen, 尾崎卓哉 …

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年
マスクレス超低損傷加工を実現する小型中性粒子ビームエッチング装置の開発

野沢善幸, LIAO B., 藤井竜介, 速水利泰, 大堀大介, 野田周一, 門井幹夫, 石田昌久, 田中麻美, 曽田匡洋 …

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
マスクレス超低損傷加工を実現するバイオテンプレート形成装置の開発

門井幹夫, 石田昌久, 田中麻美, 曽田匡洋, 大堀大介, 野田周一, 野沢善幸, LIAO B., 藤井竜介, 速水利泰 …

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
ミニマル中性粒子ビームエッチング装置の開発

大堀大介, 野田周一, 野沢善幸, LIAO B., 藤井竜介, 速水利泰, 門井幹夫, 石田昌久, 田中麻美, 曽田匡洋 …

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
HBr中性粒子ビームによるGe原子層無欠陥エッチングの検討

大堀大介, 藤井拓也, 野田周一, 水林亘, 遠藤和彦, 遠藤和彦, LI Yiming, LEE Yao-Jen, 尾崎卓哉, 寒川誠二 …

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
パルス時間変調窒素プラズマによるゲート絶縁膜の形成と紫外光照射損傷の抑制(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)

福田誠一, 田口智啓, 加藤裕司, 石川寧, 野田周一, 寒川誠二

電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス 105(109) 11-15 2005年6月3日