2022年6月1日
Impact of post-nitridation annealing in CO2 ambient on threshold voltage stability in 4H-SiC metal-oxide-semiconductor field-effect transistors
Applied Physics Express
- ,
- ,
- ,
- ,
- ,
- ,
- ,
- ,
- ,
- 記述言語
- 掲載種別
- 研究論文(学術雑誌)
- DOI
- 10.35848/1882-0786/ac6f42
- 出版者・発行元
- {IOP} Publishing
- ID情報
-
- DOI : 10.35848/1882-0786/ac6f42
- ORCIDのPut Code : 113499860