講演・口頭発表等

酸素K殼イオン化エネルギー領域の軟X線照射によるDNA損傷の収率変化

日本放射線影響学会第55回大会
  • 菅谷 雄基
  • ,
  • 椎名 卓也
  • ,
  • 白石 伊世
  • ,
  • 藤井 健太郎
  • ,
  • 横谷 明徳

開催年月日
2012年9月
記述言語
日本語
会議種別
開催地
仙台
国・地域
日本

放射光を光源として用い、軟X線のエネルギーの違いがどのようなDNA損傷の違いをもたらすかについて、その生成過程を含めて研究している。過去の研究から、酸素のK殻イオン化を引き起こすと、塩基損傷収率が窒素のK殼イオン化の収率と比べ急激に増え、酸素の1sから$\sigma$$^{*}$への励起を選択的に引き起こしたときはDNA損傷の収率が1sから$\pi$$^{*}$の励起やイオン化と比べ減少することが報告されている。今回は、これまでの試料とは異なり、緩衝液の塩を含まないプラスミドDNA(pUC18)のみを薄膜の状態にし、SPring-8のBL23SUから得られる単色軟X線を照射した。この試料を用いることで、塩に含まれる酸素のK殻イオン化による影響を排除することが可能となる。今回、DNA薄膜の作製方法を改良し、より薄い厚さの均一なリング状の膜を得ることに成功した。また、AFMを用いた膜厚測定とその結果を用いた吸収線量の評価を行ったので、これらの結果を報告する予定である。

リンク情報
URL
https://jopss.jaea.go.jp/search/servlet/search?5037660