コロナ社会により開発のリモートワーク化に加え、製造現場でのサプライチェーン分断リスク低減が求め
られており、デジタルファブリケーションはその要求に応える技術である。当研究室では窒素下、真空紫外
光（VUV 光：172nm）を用い、ウェットプロセスによる緻密なバリア構造を開発してきた。本申請では、ガラス
並の水蒸気バリア構造をインクジェット（IJ）プロセス＋VUV 光焼成にて形成する。多くのデバイス・モジュー
ルにはバリア（パッシベーション）構造が含まれており、必要な場所に必要な性能のバリア構造を、安価にデ
ジタルファブリケーションに対応することで、コロナ時代のものづくり変革を実現する。