中野武雄 (Takeo Nakano) - マイポータル

基本情報

所属: 成蹊大学理工学部理工学科教授

学位: 博士（工学）(東京大学)

研究者番号: 40237342
J-GLOBAL ID: 200901048314885741
researchmap会員ID: 1000091733

外部リンク: http://surf.ml.seikei.ac.jp/~nakano/

スパッタリング法を中心にした薄膜作製法、および薄膜の評価法について実験的な研究を行っています。

研究キーワード

研究分野

学歴

1989年4月 - 1991年3月

東京大学, 大学院工学系研究科, 物理工学専攻
1985年4月 - 1989年3月

東京大学, 工学部, 物理工学科

委員歴

2024年4月 - 現在

日本表面真空学会 SP 部会, 部会長
2020年 - 現在

日本表面真空学会, フェロー
2018年4月 - 現在

日本表面真空学会, 電子ジャーナル委員会
2010年 - 現在

日本表面真空学会, 教育委員会
2018年4月 - 2022年3月

日本表面真空学会, SP 部会副部会長
2010年 - 2015年

電気学会, 高密度金属プラズマ調査専門委員会幹事
2012年 - 2013年

日本真空学会, ISSP2013 実行委員長
2006年 - 2009年

電気学会, メタルスパッタプラズマの高度化調査専門委員会委員

受賞

2015年12月

第56回真空に関する連合講演会優秀ポスター賞, 反応性スパッタにおけるモード遷移挙動の普遍性, 日本真空学会

木村光佑, 竹内将人, 飯嶋佑斗, 長尾昌善, 大崎壽, 中野武雄
2013年

部会賞, 日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会

中野武雄
1998年

第5回(1998年秋季)応用物理学会講演奨励賞

論文

Linear Relationship between Reactive Gas Flow Rate and Target Power at Mode Transitions in Reactive Sputtering

Takeo Nakano, Kosuke Kimura, Yuto Iijima, Masato Takeuchi, Kei Oya, Masayoshi Nagao, Hisashi Ohsaki

e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 22(3) 199-206 2024年4月4日査読有り筆頭著者責任著者
Improvement of the uniformity of structural and electrical properties of transparent conductive Al-doped ZnO thin films by inductively coupled plasma-assisted radio frequency magnetron sputtering

Md. Suruz Mian, Takeo Nakano, Kunio Okimura

Thin Solid Films 769 139752-139752 2023年3月査読有り
Coloring and Bleaching Properties of 500–1000 nm‐Thick Electrochromic Tungsten Oxide Films Deposited by Reactive Direct Current Magnetron Sputtering

Md. Suruz Mian, Riko Yagi, Kei Oya, Takeo Nakano

physica status solidi (a) 2100646-2100646 2021年12月23日査読有り
ジメチルスルフィド分解用 NiO/γ-Al₂O₃ 触媒の活性サイトの局所構造解析—X線吸収分光分析を用いたNi種の硫化挙動—

霜田直宏, 小出奈央, 本間徹生, 中野武雄, 張晋, 脇田英延, 里川重夫

63(6) 365-374 2020年11月1日査読有り
Different morphologies of human embryonic kidney 293T cells in various types of culture dishes.

Katsuya Iuchi, Kei Oya, Kazuki Hosoya, Kazuki Sasaki, Yuko Sakurada, Takeo Nakano, Hisashi Hisatomi

Cytotechnology 72(1) 131-140 2020年2月査読有り
Transient evolution of the target erosion profile during magnetron sputtering: Dependence on gas pressure and magnetic configuration

Takeo Nakano, Yudai Saitou, Kei Oya

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 326 436-442 2017年10月査読有り筆頭著者責任著者
Fabrication of Mo microcones for volcano-structured double-gate Spindt-type emitter cathodes using triode high power pulsed magnetron sputtering

Takeo Nakano, Tomoki Narita, Kei Oya, Masayoshi Nagao, Hisashi Ohsaki

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 35(2) 022204 2017年3月査読有り筆頭著者責任著者
Fabrication of precious metals recovery materials using grape seed-waste

Motoki Inoue, Takeo Nakano, Akihiro Yamasaki

Sustainable Materials and Technologies 3 14-16 2015年4月1日査読有り
Growth of target race track profile during magnetron sputtering

Takeo Nakano, Yudai Saitou, Mariko Ueda, Noriaki Itamura, Shigeru Baba

Journal of the Vacuum Society of Japan 58(7) 261-264 2015年査読有り筆頭著者
Estimation of the pressure-distance product for thermalization in sputtering for some selected metal atoms by Monte Carlo simulation

Takeo Nakano, Shigeru Baba

Japanese Journal of Applied Physics 53(3) 038002-038002 2014年査読有り筆頭著者
Effects of atomic weight, gas pressure, and target-to-substrate distance on deposition rates in the sputter deposition process

Takeo Nakano, Ryo Yamazaki, Shigeru Baba

Journal of the Vacuum Society of Japan 57(4) 152-154 2014年査読有り筆頭著者
Modification of film structure by plasma potential control using triode high power pulsed magnetron sputtering

Takeo Nakano, Takuya Umahashi, Shigeru Baba

Japanese Journal of Applied Physics 53(2) 028001-028001 2014年査読有り筆頭著者
Oxygen incorporation in reactive-sputter-deposited TiN films: Influence of the metal to O2 gas flux ratio

Takeo Nakano, Takaaki Sekiya, Shigeru Baba

Journal of the Vacuum Society of Japan 57(1) 16-22 2014年査読有り筆頭著者
Effects of target voltage during pulse-off period in pulsed magnetron sputtering on afterglow plasma and deposited film structure

Takeo Nakano, Norihiko Hirukawa, Shuhei Saeki, Shigeru Baba

VACUUM 87 109-113 2013年1月査読有り筆頭著者
Spindt-type FEA fabrication by high-power impluse magnetron sputtering (HiPIMS)

Tomoya Yoshida, Masayoshi Nagao, Nobuko Koda, Takashi Nishi, Hisashi Ohsaki, Takeo Nakano

Technical Digest - 25th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2012 218-219 2012年査読有り
Spindt-emitter fabrication without e-beam deposition

Yoshida Tomoya, Nagao Masayoshi, Nishi Takashi, Koda Nobuko, Nakano Takeo, ITE/SID

Idw/ad '12: Proceedings of the International Display Workshops, Pt 3 19 1791-1794 2012年査読有り
Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulse magnetron sputtering

Takeo Nakano, Chieko Murata, Shigeru Baba

VACUUM 84(12) 1368-1371 2010年6月査読有り筆頭著者
Effect of background gas environment on oxygen incorporation in TiN films deposited using UHV reactive magnetron sputtering

Takeo Nakano, Ken&apos, ichiroh Hoshi, Shigeru Baba

VACUUM 83(3) 467-469 2008年10月査読有り筆頭著者
窒化チタンの反応性スパッタ製膜における真空環境の影響

中野武雄, 星堅一郎, 馬場茂

真空 50(4) 291-293 2007年査読有り筆頭著者
Dielectric breakdown phenomena during secondary electron emission measurement of sputter-deposited MgO films

Takeo Nakano, Takashi Fujimoto, Daisuke Nakada, Shigeru Baba

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 45(10A) 7875-7878 2006年10月査読有り筆頭著者

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MISC

HfN and Hf Spindt-Type FEA Fabrication Using Triode Reactive High Power Pulsed Magnetron Sputtering

Hiromasa Murata, Shun Kondo, Md. Suruz Mian, Katsuhisa Murakami, Takeo Nakano, Masayoshi Nagao

2024 37th International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC) 1-2 2024年7月15日
第9回真空・表面科学アジア・オーストラリア会議（VASSCAA-9），およびVASSCAA国際運営委員会とIUVSTA理事会の報告

中野武雄, 小森文夫, 福谷克之, 谷本育律

表面と真空 62(1) 48-50 2019年1月10日
大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン、クリプトン)の効果

谷口日向, 大家渓, 中野武雄, 長尾昌善, 大崎壽, 村上勝久

電子情報通信学会技術研究報告 118(263) 5-8 2018年10月
日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会第155回定例研究会「固体材料および薄膜中のプロトンの移動」開催報告

中野武雄

表面と真空 61(2) 102-102 2018年
大電力パルススパッタリングを用いた金属膜の構造制御 (特集薄膜成長の最前線)

中野武雄

表面科学 = Journal of the Surface Science Society of Japan 38(5) 228-233 2017年5月
大電力パルススパッタリングを用いた金属膜の構造制御

中野武雄

表面科学 38(5) 223-228 2017年5月査読有り招待有り
大電力パルススパッタ小特集に寄せて

中野武雄

Journal of the Vacuum Society of Japan 60(9) 339-340 2017年招待有り
非蒸発ゲッタポンプ用合金膜のスパッタ製膜

三嶋東, 桑島理樹, 中野武雄, 大家渓, 間瀬一彦, 間瀬一彦, 菊地貴司

真空に関する連合講演会講演予稿集 57th 61-122 2016年11月29日
動的摩擦試験法による塗膜の粘性測定および乾燥過程の評価

柴田一, 中野武雄, 馬場茂

成蹊大学理工学研究報告 51(1) 1-5 2014年6月
プラズマの基礎

Takeo Nakano

Journal of the Vacuum Society of Japan 57(8) 308-312 2014年
MgOスパッタ薄膜の構造特性 : 絶縁破壊およびスクラッチ損傷

江上傑, 村瀬史弥, 田端美咲, 小曾根良介, 中野武雄, 馬場茂

成蹊大学理工学研究報告 50(2) 27-31 2013年12月
レーザー光照射によるp型Siの局所的陽極酸化とナノ構造制御

大木早苗, 大澤修一, 中野武雄, 馬場茂

成蹊大学理工学研究報告 50(1) 9-16 2013年6月
SPECIAL ISSUE Including rapid communications, original articles and a special section with papers from the Proceedings of the Eleventh International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP 2011) 6-8 July 2011, Kyoto, Japan Preface

Osamu Nakagawara, Naoto Kikuchi, Yasuhito Gotoh, Yoshio Ishihara, Satoru Iwamori, Nobuhito Makino, Takeo Nakano, Takayuki Sakai

VACUUM 87 95-95 2013年1月
Preface

Osamu Nakagawara, Naoto Kikuchi, Yasuhito Gotoh, Yoshio Ishihara, Satoru Iwamori, Nobuhito Makino, Takeo Nakano, Takayuki Sakai

Vacuum 87 95 2013年1月1日
Preface

Osamu Nakagawara, Naoto Kikuchi, Yasuhito Gotoh, Yoshio Ishihara, Satoru Iwamori, Nobuhito Makino, Takeo Nakano, Takayuki Sakai

Vacuum 87 95 2013年
The 12th international symposium on sputtering and plasma processes (ISSP2013)

Takeo Nakano

Journal of the Vacuum Society of Japan 56(11) 472-473 2013年
スパッタプロセスを用いたスピント型電子源の作製

吉田知也, 長尾昌善, 神田信子, 西孝, 中野武雄

電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス 112(303) 19-23 2012年11月12日
Structural properties of island films of indium on Si(111) and the sputter-etching profile

Baba Shigeru, Iozaki Makoto, Sato Shogo, NAKANO Takeo

成蹊大学理工学研究報告 48(1) 1-8 2011年6月
Vacuum: Preface

Naoto Kikuchi, Yasuhito Gotoh, Nobuo Fujiwara, Osamu Nakagawara, Takeo Nakano

Vacuum 84(12) 1353 2010年6月25日
Selected Papers from the Proceedings of the Tenth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP 2009), 8-10 July 2009, Kanazawa, Japan Preface

Naoto Kikuchi, Yasuhito Gotoh, Nobuo Fujiwara, Osamu Nakagawara, Takeo Nakano

VACUUM 84(12) 1353-1353 2010年6月

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書籍等出版物

真空科学ハンドブック

日本真空学会 (担当:共編者(共編著者), 範囲:6.1 薄膜作製)

コロナ社 2018年3月 (ISBN: 9784339009088)
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎

表面技術協会 (担当:共著)

コロナ社 2013年5月 (ISBN: 9784339046311)
ロールtoロール技術の最新動向

(担当:共著)

シーエムシー出版 2011年3月 (ISBN: 9784781303215)
スパッタ実務［Ｑ＆Ａ集］

(担当:編者(編著者))

技術情報協会 2009年1月 (ISBN: 9784861042768)
薄膜ハンドブック(第2版)

(担当:共著)

オーム社 2008年3月 (ISBN: 9784274205194)
ディスプレイ・光学部材における薄膜製造技術

(担当:共著)

情報機構 2007年8月 (ISBN: 9784901677837)
生産現場・開発現場において役立つ薄膜作製技術

(担当:共著)

リアライズ理工センター 2006年11月 (ISBN: 4898080782)
オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術

(担当:共著)

技術情報協会 2006年10月 (ISBN: 4861041252)
Adhesion Aspects of Thin Films, vol. II

VSP (Netherland) 2005年 (ISBN: 9067644218)

講演・口頭発表等

Application of triode HPPMS for fabrication of Spindt-type micro vacuum electron emitter array

Takeo Nakano

HiPIMS Today 2024 2024年3月13日招待有り
大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン、クリプトン)の効果

谷口日向, 大家溪, 中野武雄, 長尾昌善, 大崎壽, 村上勝久

電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス 2018年10月24日電子情報通信学会
反応性スパッタにおけるモード遷移現象の普遍性と膜物性予測

木村光佑, 磯村航, 大家渓, 中野武雄, 長尾昌善, 大崎壽

表面科学学術講演会要旨集 2016年公益社団法人日本表面科学会
非蒸発ゲッタポンプ用合金膜のスパッタ製膜

三嶋東, 桑島理樹, 中野武雄, 大家渓, 間瀬一彦, 菊地貴司

表面科学学術講演会要旨集 2016年公益社団法人日本表面科学会
反応性スパッタで製膜したチタン酸化物薄膜の表面特性と細胞接着性

竹内将人, 木村成輝, 福田一貴, 細谷一輝, 大家渓, 岩森暁, 中野武雄

表面科学学術講演会要旨集 2016年公益社団法人日本表面科学会
反応性スパッタで作製した酸化タングステン薄膜のエレクトロクロミック特性

飯嶋佑斗, 陳鵬程, 佐野智哉, 大家溪, 中野武雄

表面科学学術講演会要旨集 2016年公益社団法人日本表面科学会
モンテカルロ法計算によるスパッタ原子の熱化距離の評価

中野武雄

表面科学学術講演会要旨集 2016年公益社団法人日本表面科学会
反応性スパッタにおけるモード遷移挙動の普遍性

木村光佑, 竹内将人, 飯嶋佑斗, 長尾昌善, 大崎壽, 中野武雄

表面科学学術講演会要旨集 2015年公益社団法人日本表面科学会
プラズマ電位制御型大電力パルススパッタで作製したMo薄膜の構造

中野武雄, 成田智基, 木村光祐

表面科学学術講演会要旨集 2015年公益社団法人日本表面科学会
プラズマ電位を制御したHPPMSによるSpindt型エミッタ陰極の作製

成田智基, 中野武雄, 長尾昌善, 大崎壽

表面科学学術講演会要旨集 2015年公益社団法人日本表面科学会
スパッタプロセスを用いたスピント型電子源の作製(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)

吉田知也, 長尾昌善, 神田信子, 西孝, 中野武雄

電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス 2012年11月12日

主要な所属学協会

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共同研究・競争的資金等の研究課題

デュアルターゲット型大電力パルススパッタによるプラズマ電位と薄膜構造の制御

文部科学省基盤研究(C) 2017年4月 - 2020年3月

中野武雄
大電力パルススパッタにおけるパルスオフ期間のターゲット電位を用いた薄膜構造制御

文部科学省科学研究費補助金(基盤研究(C)) 基盤研究(C) 2012年 - 2014年

中野武雄
酸素フリーな金属窒化物の反応性スパッタ製膜過程の理解と電気物性への酸素混入の効果

文部科学省科学研究費補助金(基盤研究(C)) 基盤研究(C) 2009年 - 2011年

馬場茂, 中野武雄
スパッタ粒子とガスの輸送過程を考慮した反応性スパッタプロセスモデルの構築

文部科学省科学研究費補助金(基盤研究(C)) 基盤研究(C) 2007年 - 2009年

中野武雄
高圧環境下のスパッタリング製膜過程におけるシミュレーションモデルの開発

文部科学省科学研究費補助金(奨励研究(A)) 奨励研究(A) 1999年 - 2000年

中野武雄
Evolution of surface roughness of growing sputter deposited film

1998年
Study on Electical and Structual properties of Cu-In alloy films

1995年
エキソ電子による薄膜のスクラッチ破損の検出

文部科学省科学研究費補助金(一般研究(C)) 一般研究(C) 1993年 - 1994年

馬場茂, 中野武雄
スパッタ製膜過程における粒子輸送過程に関する研究

1993年
Study on Particle Transportation in Sputter Deposition Drocess

1993年
スパッタ製膜技術に関する研究
Study on sputter deposition process

中野武雄

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研究分野

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委員歴

受賞

論文

MISC

書籍等出版物

講演・口頭発表等

主要な所属学協会

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