百瀬健 (Takeshi Momose) - マイポータル

基本情報

所属: 熊本大学半導体・デジタル研究教育機構教授

学位: 博士（工学）(2009年9月東京大学)

J-GLOBAL ID: 201301082458025212
researchmap会員ID: B000229553

外部リンク: http://www.fpelab.cs.kumamoto-u.ac.jp

研究キーワード

研究分野

経歴

2025年4月 - 現在

熊本大学, 半導体・デジタル研究教育機構, 学長特別補佐
2024年4月 - 現在

熊本大学, 半導体・デジタル研究教育機構, 教授
2023年4月 - 2024年3月

熊本大学, 半導体・デジタル研究教育機構, 准教授
2016年4月 - 2023年3月

東京大学, 大学院工学系研究科, 講師
2011年7月 - 2016年3月

東京大学, 大学院工学系研究科, 助教
2011年4月 - 2011年6月

東京大学, 大学院工学系研究科, 特任助教
2009年10月 - 2011年3月

東京大学, 生産技術研究所, 特任助教
2008年10月 - 2009年9月

東京大学, 生産技術研究所, 特任研究員

委員歴

2024年7月 - 現在

第17回JAFOE 日米先端工学シンポジウム (2025)., Sesseion Chair “Heterogeneous Integration in Semiconductors”
2023年 - 現在

化学工学会エレクトロニクス部会幹事
2023年 - 現在

化学工学会超臨界流体部会部会連携委員
2022年 - 現在

応用物理学会シリコンテクノロジー分科会幹事
2022年 - 現在

応用物理学会シリコンテクノロジー分科会多層配線システム研究委員会委員
2021年 - 現在

電気化学会電子材料委員会監事
2019年 - 現在

Advanced Metallization Conference (ADMETA Plus), General Arrangements Committee
2018年 - 現在

化学工学会反応工学部会若手の会(反好会) 代表幹事
2018年 - 現在

化学工学会反応工学部会役員
2016年 - 現在

化学工学会反応工学部会 CVD反応分科会幹事
2014年 - 現在

化学工学会超臨界流体部会材料・合成分科会サブリーダー
2014年 - 現在

化学工学会超臨界流体部会幹事
2019年 - 2023年

化学工学会化学工学会誌編集委員
2022年

International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2022), Steering Committee
2019年 - 2021年

電気化学会電子材料委員会委員
2019年 - 2021年

化学工学会 webサービス委員
2016年 - 2021年

化学工学会関東支部若手の会(ChEC-E) 幹事
2016年 - 2018年

Advanced Metallization Conference (ADMETA Plus), Publicity Committee
2018年

International Symposium on Molecular Thermodynamics and Molecular Simulation (MTMS), Committee
2017年

化学工学会反応工学部会若手の会(反好会) 幹事

受賞

2025年3月

第27回化学工学会学生発表会優秀賞, 化学工学会

小田翔太, 近藤澄弥, 中村有沙, 百瀬健
2025年3月

令和６年度優秀教育者表彰（ティーチングアワード）, 熊本大学工学部
2024年3月

2023年度化学工学会部会活動貢献賞(部会CT賞), 超臨界流体部会における部会活動の企画、運営と活性化への顕著な貢献, 化学工学会

超臨界流体部会材料合成分科会(笘居高明,百瀬健)
2012年3月

平成23年度化学工学会研究奨励賞(内藤雅喜記念賞), 超臨界流体を用いた金属薄膜堆積プロセスの構築, 化学工学会

百瀬健
2011年9月

平成23年度若手奨励賞, 超臨界Cu薄膜堆積プロセスの体系的理解に基づくウェハスケール反応器設計, 化学工学会CVD反応分科会

百瀬健
2011年9月

ADMETA Poster Award 2011, Mass Production Reactor design for Cu Interconnects on 12-inch Wafers Using Supercritical Fluid Deposition, Advanced Metallization Conference

Takeshi Momose

論文

Noboru Sato, Jun Yamaguchi, Masahiro Koto, Hayato Kubo, Takanori Sugiyama, Takahito Tanibuchi, Momoko Deura, Takeshi Momose, and Yukihiro Shimogaki “Theoretical study on gas-phase reactions during chemical vapor deposition of TixAl1-xN from TiCl4, AlCl3, and NH3”

Noboru Sato, Jun Yamaguchi, Masahiro Koto, Hayato Kubo, Takanori Sugiyama, Takahito Tanibuchi, Momoko Deura, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

International Journal of Chemical Kinetics 57(1) 3-15 2024年7月9日査読有り
Atomic Layer Deposition of Cobalt Film from Dicobalt-hexacarbonyl-tert-butylacetylene and Hydrogen

Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ECS Journal of Solid State Science and Technology 12(11) 114003-114003 2023年11月1日査読有り
Effect of layer structure of AlN interlayer on the strain in GaN layers during metal-organic vapor phase epitaxy on Si substrates

Momoko Deura, Takuya Nakahara, Wan Chi Lee, Takeshi Momose, Yoshiaki Nakano, Masakazu Sugiyama, Yukihiro Shimogaki

Journal of applied physics 133(16) 2023年4月28日査読有り
Kinetic Study on Heterogeneous Nucleation and Incubation Period during Chemical Vapor Deposition

Kohei Shima, Yuhei Otaka, Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

The Journal of Chemical Physics 158(12) 124704-1-12 2023年3月査読有り
Supercritical fluid deposition for conformal Cu film formation on sub-millimeter-scale structures used to fabricate terahertz waveguides

Yuyuan Huang, Momoko Deura, Yusuke Shimoyama, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose

Applied physics express 15(7) 2022年7月1日査読有り最終著者責任著者
Identifying the mechanism of formation of chlorinated silane polymer by-products during chemical vapor infiltration of SiC from CH<inf>3</inf>SiCl<inf>3</inf>/H<inf>2</inf>

Noboru Sato, Yasuyuki Fukushima, Kohei Shima, Yuichi Funato, Takeshi Momose, Mitsuo Koshi, Yukihiro Shimogaki

International journal of chemical kinetics 54(5) 300-308 2022年5月査読有り
Suitability of metallic materials for constructing metal-coated dielectric terahertz waveguides

Yuyuan Huang, Kuniaki Konishi, Momoko Deura, Yusuke Shimoyama, Junji Yumoto, Makoto Kuwata-Gonokami, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose

Journal of applied physics 131(10) 2022年3月14日査読有り最終著者責任著者
Conformal and Stoichiometric Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide onto Ultradeep Heterogeneous Micropores by Controlling the Initial Nucleation Stage

Kohei Shima, Yuhei Otaka, Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ACS Applied Materials & Interfaces 13(44) 53009-53020 2021年11月10日査読有り
Development of a model for evaluating propagation loss of metal-coated dielectric terahertz waveguides

Yuyuan Huang, Kuniaki Konishi, Momoko Deura, Yusuke Shimoyama, Junji Yumoto, Makoto Kuwata-Gonokami, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose

Journal of applied physics 130(5) 2021年8月7日査読有り最終著者責任著者
Drop-in test structure to evaluate residual stress in conformally grown films

Naoto Usami, Etsuko Ota, Akio Higo, Takeshi Momose, Yoshio Mita

IEEE transactions on semiconductor manufacturing 34(3) 270-277 2021年8月査読有り
Kinetic analysis of face-centered-cubic Ti<inf>1−</inf><inf>x</inf>Al<inf>x</inf>N film deposition by chemical vapor deposition

Momoko Deura, Hiroki Sato, Jun Yamaguchi, Tomoko Hirabaru, Hayato Kubo, Takeshi Momose, Takahito Tanibuchi, Yukihiro Shimogaki

Materials science and engineering: B 264 2021年2月査読有り
Elementary gas‐phase reactions of radical species during chemical vapor deposition of silicon carbide using CH₃SiCl₃

Noboru Sato, Yuichi Funato, Kohei Shima, Hidetoshi Sugiura, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Mitsuo Koshi, Yukihiro Shimogaki

International Journal of Chemical Kinetics 53(5) 638-645 2021年1月11日査読有り
Porous Membranes as Sacrificial Layers Enabling Conformal Chemical Vapor Deposition Involving Multiple Film-Forming Species

Kohei Shima, Yuichi Funato, Noboru Sato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ACS Applied Materials & Interfaces 12(45) 51016-51025 2020年10月30日査読有り
Modeling of the elementary gas-phase reaction during chemical vapor deposition of silicon carbide from CH<inf>3</inf>SiCl<inf>3</inf>/H<inf>2</inf>

Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Mitsuo Koshi, Yukihiro Shimogaki

International journal of chemical kinetics 52(6) 359-367 2020年6月1日査読有り
Hot-wire-assisted atomic layer deposition of high-quality Ru thin films in the absence of oxidization

Guangjie Yuan, Hideharu Shimizu, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ECS journal of solid state science and technology 9(2) 2020年1月17日査読有り
Area-selective Cu film growth on TiN and SiO2 by supercritical fluid deposition

Naoto Usami, Etsuko Ota, Akio Higo, Takeshi Momose, Yoshio Mita

IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines 140(1) 31-36 2020年1月査読有り
Identification of Film-Forming Species during SiC-CVD of CH3SiCl3/H2 by Exploiting Deep Microtrenches

Kohei Shima, Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ECS Journal of Solid State Science and Technology 8(8) P423-P429 2019年7月査読有り
Strain control of GaN grown on Si substrates using an AlGaN interlayer

Momoko Deura, Takuya Nakahara, Takeshi Momose, Yoshiaki Nakano, Masakazu Sugiyama, Yukihiro Shimogaki

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 514 65-69 2019年5月査読有り
Growth mechanism of hot wire-assisted atomic layer deposition of nickel to achieve conformal deposition on trenches: Role of physisorption and chemisorption

Guangjie Yuan, Hideharu Shimizu, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

Japanese journal of applied physics 58(7) 2019年査読有り
Influence of Pretreatment on Adhesion Quality of Supercritical-fluid-deposited Cu Film on Si

Usami Naoto, Ota Etsuko, Momose Takeshi, Higo Akio, Mita Yoshio

SENSORS AND MATERIALS 31(8) 2481-2496 2019年査読有り

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MISC

240

“Development of Molybdenum Atomic Layer Deposition Process for Next Generation ULSI Interconnect”

Haonan Liu, Yuxuan Wu, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
“In Situ observation of initial stage of Cobalt ALD using reflected light measurement”

Shunsuke Kimura, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
"Examination of Co-ALD process using CCTBA precursor"

Jun Yamaguchi, Noboru, Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
“Study of Cu precursors Adsorption Behavior on Cu (111) Surface by Density Functional Theory”

Yuxuan Wu, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Haonan Liu, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
“Investigation of oxidation impact on Cu diffusivity in ultra-thin PVD-Co(W) films”

Yubin Deng, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
“Study of estimating vapor pressure of metal complex with COSMO-SAC method and its improvement”

Noboru Sato, Jun Yamaguchi, Wu Yuxuan, Momoko Deura, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月
“Development of low-resistivity copper thin film formation process on polymer using supercritical fluid deposition”

Yusuke Nakajima, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose

ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023年10月最終著者
高下地選択性Co-ALDプロセス設計のための可視光反射率その場観察手法の構築

木村俊介, 山口潤, 佐藤登, 百瀬健, 霜垣幸浩

化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 88th 2023年
理論的検討に基づいたSiC-CVIプロセスにおける表面反応モデルの改良

佐藤登, 木村俊介, 大高雄平, 脇山知也, 福島康之, 百瀬健, 霜垣幸浩

化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 88th 2023年
超臨界流体薄膜堆積法を用いた誘電体上の低抵抗率銅薄膜形成に向けた前処理条件の検討

中嶋佑介, HUANG Yuyuan, 霜垣幸浩, 百瀬健

化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 88th 2023年
タイムラグ法を用いた極薄PVD-Co(W)薄膜の定量的バリア性評価

百瀬健, KIM Taewoong, DENG Yubin, 出浦桃子, 松尾明, 山口述夫, 霜垣幸浩

電子情報通信学会技術研究報告(Web) 121(366(SDM2021 74-79)) 2022年
SiC/Si基板上に成長した窒化物半導体層内ボイドの形成メカニズム

奥友則, 百瀬健, 霜垣幸浩, 出浦桃子

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 69th 2022年
Co-ALDプロセスにおける原料の比較検討

山口潤, 佐藤登, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩

化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 87th 2022年
MTS/H₂を原料としたSiC-CVIにおけるSiCl₄添加による微細構造内製膜均一化の原因考察

大高雄平, 木村俊介, 佐藤登, 福島康之, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩

化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 87th 2022年
理論的検討に基づいたTiAlN-CVDプロセスの表面反応モデル構築

佐藤登, 古藤雅大, 久保隼人, 杉山貴悟, 出浦桃子, 百瀬健, 谷渕栄仁, 霜垣幸浩

化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 87th 2022年
超臨界流体薄膜堆積法により作製したTiO₂の光触媒活性決定要因

安治遼祐, 中嶋佑介, 出浦桃子, 下山裕介, 霜垣幸浩, 百瀬健

化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 87th 2022年
COSMO-SAC法による金属錯体の蒸気圧予測の検討

佐藤登, 山口潤, 呉宇軒, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩

化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 53rd 2022年
CCTBAを用いたCo-ALDプロセスの検討

山口潤, 佐藤登, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩

化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 53rd 2022年
SiC-CVI法における高濃度水素供給を利用した高速含浸条件の検討

木村俊介, 大高雄平, 佐藤登, 福島康之, 出浦桃子, 百瀬健, 霜垣幸浩

化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 53rd 2022年
高アスペクト比構造へのCu-SCFDプロセス最適設計に向けたCu(tmhd)2のscCO2への溶解度と拡散係数の測定

師井滉平, HUANG Yuyuan, 出浦桃子, 下山裕介, 霜垣幸浩, 百瀬健

化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM) 53rd 2022年

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書籍等出版物

高圧力の科学・技術事典

(担当:分担執筆)

朝倉書店 2022年11月 (ISBN: 9784254102970)
薄膜作製応用ハンドブック

(担当:分担執筆)

エヌ・ティー・エス 2020年2月 (ISBN: 9784860436315)
最新実用真空技術総覧 = New practical vacuum technology

(担当:分担執筆)

エヌ・ティー・エス 2019年2月 (ISBN: 9784860435592)
超臨界流体を用いる合成と加工

(担当:共著)

シーエムシー出版 2017年10月 (ISBN: 9784781312682)
超臨界流体技術の開発と応用

(担当:分担執筆)

シーエムシー出版 2014年7月 (ISBN: 9784781308906)

講演・口頭発表等

“Supercritical fluid technologies for semiconductor fabrication”

Takeshi Momose

14th International Symposium on Supercritical Fluids and 9th International Solvothermal and Hydrothermal Association Conference (ISSF-ISHA 2025)(keynote) 2025年6月招待有り
「高放熱性3D Chipletに向けた高熱伝導AlN膜の研究」

高木剛, 二宮健生, 丹羽正昭, 小原聡顕, 百瀬健, 霜垣幸浩, 野村政宏, 藤岡洋, 森正和, 黒田忠広

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会（SDM） 2025年2月19日招待有り
「超臨界流体薄膜堆積法(SCFD)の基礎と反応工学を活用した高度化」

百瀬健

薄膜材料デバイス研究会第21回研究集会 2024年11月29日招待有り
「高熱伝導率を有するAlN膜の研究と先端3D Chipletへの応用」

高木剛, 二宮健生, 丹羽正昭, 小原聡顕, 百瀬健, 霜垣幸浩, 野村政宏, 藤岡洋, 森正和, 黒田忠広

シリコンテクノロジー分科会第253回研究集会「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」 2024年11月7日招待有り
“High-Quality Co Thin Film by Thermal ALD Using CCTBA Precursor by controlling H2 Dose”

Jun Yamaguchi, N. Sato, A. Tsukune, T. Momose, Y. Shimogaki

AVS 24th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2024) 2024年8月
“High thermal conductivity AlN films for advanced 3D Chiplets”

T. Takagi, T. Ninomiya, M. Niwa, S. Obara, T. Momose, Y. Shimogaki, M. Nomura, H. Fujioka, M. Mori, T. Kuroda

2024 IEEE Symposium on VLSI Technology & Circuits 2024年
“Investigation of Cu barrier properties of 1-nm-thick PVD-Co(W) films as a single liner/barrier in next-generation ULSI-Cu interconnect”

Yubin Deng, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

IEEE International Interconnect Technology Conference (IITC) 2024年
“Enhancement of Co-ALD selectivity by vapor phase surface modification and ALE combination”

Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhko Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

Area Selective Deposition Workshop (ASD) 2024 2024年4月
“In Situ observation on the initial Co-ALD film growth using spectroscopic reflected light measurements”

Shunsuke Kimura, Jun. Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiko Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki

Area Selective Deposition Workshop (ASD) 2024年4月
Supercritical fluid deposition for semiconductors

Takeshi Momose

The Society of Chemical Engineering, Japan, 89th annual Meeting (international session) 2024年3月18日招待有り
超臨界流体薄膜堆積法の基礎と半導体応用

百瀬健

公益社団法人新化学技術推進協会 2024年1月25日招待有り
半導体集積地熊本での薄膜プロセス研究

百瀬健

化学工学会東北支部夏季セミナー 2023年9月27日招待有り
タイムラグ法を用いた極薄PVD-Co(W)薄膜の定量的バリア性評価

百瀬健, 金泰雄, 鄧玉斌, 出浦桃子, 松尾明, 山口述夫, 霜垣幸浩

電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会 2022年2月4日招待有り
超臨界流体薄膜堆積法（SCFD）：速度論からデバイス応用まで

百瀬健

化学工学会第52回秋季大会 2021年9月24日招待有り
Conformal TiO2 film formation on high-aspect-ratio features by supercritical fluid deposition using quasi-0th-order reaction kinetics

Takeshi Momose

18th Euro Meeting on Supercritical Fluids 招待有り
Supercritical fluid deposition of metal films to fabricate terahertz communication devices

Takeshi Momose

11th International Conference on Supercritical Fluids-Supergreen 2019 招待有り
Supercritical fluid deposition of TiO2 and Bi4Ti3O12 for memory devices

Takeshi Momose

The Korean Institute of Chemical Engineering, Fall Symposium 2018 招待有り
超臨界流体を用いた薄膜形成

百瀬健

CMCセミナー「超臨界流体の基礎とものづくりへの応用」 2018年8月23日招待有り
超臨界流体を用いた薄膜堆積技術のCu配線形成への応用

百瀬健

日本学術振興会第154委員会 2017年12月22日招待有り
Thin film deposition using chemical reaction in supercritical fluid for high-aspect-ratio 3-dimensional features

Takeshi Momose

The Society of Chemical Engineering, Japan, 82nd annual Meeting (international session) 招待有り

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百瀬健

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研究分野

経歴

委員歴

受賞

論文

MISC

書籍等出版物

講演・口頭発表等

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