論文

2021年10月19日

(Invited) Evaluation of Chemical and Physical Conformality for SiN x Films Deposited on Trench Substrate By Atomic Layer Deposition

ECS Meeting Abstracts
  • Atsushi Ogura
  • ,
  • Ryo Yokogawa
  • ,
  • Tappei Nishihara
  • ,
  • Yuji Otsuki
  • ,
  • Munehiro Kagaya

記述言語
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
DOI
10.1149/MA2021-0230939mtgabs

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1149/MA2021-0230939mtgabs
ID情報
  • DOI : 10.1149/MA2021-0230939mtgabs
  • ORCIDのPut Code : 102979888

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