早川太朗 (Taro Hayakawa) - マイポータル

基本情報

所属: 日新イオン機器(株) 新事業推進部

学位: 博士（材料科学）(2012年3月北陸先端科学技術大学院大学)
修士(2008年3月大阪府立大学)
学士(2006年3月大阪府立大学)

J-GLOBAL ID: 202101015983084010

研究分野

経歴

2012年4月 - 現在

日新イオン機器（株）新事業推進部
2008年4月 - 2009年6月

住友電気工業（株）住友電工ハードメタル超高圧材料グループ

学歴

2009年7月 - 2012年3月

北陸先端科学技術大学院大学マテリアルサイエンス研究科
2006年4月 - 2008年3月

大阪府立大学大学院電子・数物系電子物理工学分野
2002年4月 - 2006年3月

大阪府立大学工学部電子物理工学科

論文

Cat-doping: Novel method for phosphorus and boron shallow doping in crystalline silicon at 80 °C

Hideki Matsumura, Taro Hayakawa, Tatsunori Ohta, Yuki Nakashima, Motoharu Miyamoto, Trinh Cham Thi, Koichi Koyama, Keisuke Ohdaira

Journal of Applied Physics 116(11) 114502 - 114502 2014年9月21日査読有り
Effect of Radical-Doped n$^{+}$ Back Surface Field Layers on the Effective Minority Carrier Lifetimes of Crystalline Silicon with Amorphous Silicon Passivation Layers Deposited by Catalytic Chemical Vapor Deposition

Taro Hayakawa, Tatsunori Ohta, Yuki Nakashima, Koichi Koyama, Keisuke Ohdaira, Hideki Matsumura

Japanese Journal of Applied Physics 51 101301 - 101301 2012年9月25日査読有り筆頭著者
Distribution of Phosphorus Atoms and Carrier Concentrations in Single-Crystal Silicon Doped by Catalytically Generated Phosphorous Radicals

Taro Hayakawa, Yuki Nakashima, Koichi Koyama, Keisuke Ohdaira, Hideki Matsumura

Japanese Journal of Applied Physics 51 061301 - 061301 2012年6月4日査読有り筆頭著者
Low-temperature Phosphorus Doping To Silicon Using Phosphorus-related Radicals

Taro Hayakawa, Yuuki Nakashima, Koichi Koyama, Keisuke Ohdaira, Hideki Matsumura

MRS Proceedings 1391 2012年筆頭著者
Low Temperature Phosphorus Doping in Silicon Using Catalytically Generated Radicals

Taro Hayakawa, Yuki Nakashima, Motoharu Miyamoto, Koichi Koyama, Keisuke Ohdaira, Hideki Matsumura

Japanese Journal of Applied Physics 50 121301 - 121301 2011年11月10日査読有り筆頭著者

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講演・口頭発表等

イオンビームエッチング用大口径イオンビームの特性

早川太朗, 井内裕, 池尻忠司

2020年3月14日
ビームプラズマが低エネルギーイオンビームの発散角へ与える影響

早川太朗, 永尾友一, 井内裕, 三上隆司

2019年3月10日
ホローカソードを陰極に用いた大面積イオン源の開発

早川太朗, 永尾友一, 井内裕

2016年3月19日
ラジカル反応でドープしたP原子の分布とキャリア濃度の関係

早川太朗, 中島裕貴, 太田立教, 小山晃一, 大平圭介, 松村英樹

2012年3月16日
Low-temperature Phosphorus Doping To Silicon Using Phosphorus-related Radicals

Taro Hayakawa, Yuuki Nakashima, Koichi Koyama, Keisuke Ohdaira, Hideki Matsumura

2011 MRS Fall Meeting & Exhibit 2011年11月2日

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所属学協会

2009年9月 - 現在

応用物理学会
2006年3月 - 現在

日本物理学会

早川太朗

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