2019年9月12日 高濃度WドーピングによるCo-W-Pめっき膜の酸化耐性と樹脂密着性の向上 マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集 岩重 朝仁, 遠藤 剛, 杉浦 和彦, 鶴田 和弘, 佐久間 裕一, 小田 幸典, 陳 伝トウ, 長尾 至成, 菅原 徹, 菅沼 克昭 巻 29 号 開始ページ 283 終了ページ 286 記述言語 日本語 掲載種別 出版者・発行元 エレクトロニクス実装学会 リンク情報 CiNii Articleshttp://ci.nii.ac.jp/naid/40022302011URLhttp://id.ndl.go.jp/bib/030551170 ID情報 CiNii Articles ID : 40022302011 エクスポート BibTeX RIS