2007年9月 移動マスクUV露光法によるポジ型厚幕レジストの3次元加工と形状シミュレーション技術 日本機械学会2007年度年次大会 平井 義和, 稲本 好輝, 菅野 公二, 土屋 智由, 田畑 修 開始ページ 303 終了ページ 304 記述言語 日本語 掲載種別 エクスポート BibTeX RIS