1999年9月7日
プラズマCVD SiO_2薄膜の引張試験 : 試験雰囲気が引張強度に与える影響評価
電気学会研究会資料. MM, マイクロマシン研究会
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- 巻
- 1999
- 号
- 13
- 開始ページ
- 5
- 終了ページ
- 9
- 記述言語
- 日本語
- 掲載種別
- リンク情報
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- CiNii Articles
- http://ci.nii.ac.jp/naid/10016813866
- CiNii Books
- http://ci.nii.ac.jp/ncid/AA11357111
- ID情報
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- CiNii Articles ID : 10016813866
- CiNii Books ID : AA11357111