特許権 セラミックス被覆層の分離方法及び分析方法 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 植田 祥平, 沢 和弘 出願番号 特願2008-092116 出願日 2008年3月31日 公開番号 特開2009-244153 公開日 2009年10月22日 リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=200903032959915690URLhttp://jglobal.jst.go.jp/public/200903032959915690 ID情報 J-Global ID : 200903032959915690