2019年9月4日
Molecular Dynamics Simulation of Thermal Chemical Vapor Deposition for Hydrogenated Amorphous Silicon on Si (100) Substrate by Reactive Force-Field
2019 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices
- ,
- ,
- ,
- ,
- 開催年月日
- 2019年9月4日 - 2019年9月6日
- 記述言語
- 英語
- 会議種別
- ポスター発表